中文：曝光實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)劝术；英文：in-situ monitoring of exposure

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通過(guò)探測(cè)曝光過(guò)程中光刻膠折射率空間分布發(fā)生的微小變化而形成的潛像光柵，記錄光束某一非零衍射級(jí)實(shí)現(xiàn)對(duì)曝光過(guò)程的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)的方法姆泻×憷遥可根據(jù)所要制作的光柵刻槽形狀確定在監(jiān)測(cè)曲線適當(dāng)位置處停止曝光冒嫡。