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常用工作介質(zhì)遠(yuǎn)紅外激光器25~1000μm自由電子激光器中紅外激光器2.5~25μmCO分子氣體激光器(5~6μm)近紅外激光器750nm~2500nm摻釹固體激光器(2064nm)巡蘸、砷化鈣(CaAs)半導(dǎo)體激光器(800nm)可見光激光器400nm~700nm氦氖(632.8nm)奋隶、氬離子(488nm)、紅寶石(694.3nm)悦荒、等近紫外激光器200nm~400nm氟化氙(XeF)唯欣、氟化氪(Krf)、氮(N)分子激光器真空紫外激光器50nm~200nm氙(Xe)逾冬、氫(H)分子激光器X射線激光器0.01~50nm目前多處于探索階段除了激勵源和激光工作介質(zhì)之外還需要能使激發(fā)光放大的光學(xué)諧振腔黍聂，如 ...
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