解釋
中文：反應(yīng)離子束刻蝕爱葵；英文：reactive ion etching的原理施戴；中文：反應(yīng)離子束刻蝕；英文：reactive ion etching的定義萌丈；中文：反應(yīng)離子束刻蝕赞哗；英文：reactive ion etching是什么。
射頻電源使反應(yīng)室的混合氣體產(chǎn)生等離子體辆雾，離子被加速并與待刻蝕的表面材料相互作用肪笋，發(fā)生物理和化學反應(yīng)，高能離子轟擊待刻蝕材料度迂、使原子溢出藤乙、實現(xiàn)刻蝕的工藝過程。
