中文：刻蝕；英文：etching

上御吞，然后通過刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來制作電子電路的技術(shù)。其中光刻系統(tǒng)被稱為光刻機(jī)漓藕，帶有圖形的石英板稱為掩膜陶珠，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。具體光刻流程如下圖所示 光刻技術(shù)是集成電路制造享钞、印刷電路板制造以及微機(jī)電元件制造等微納加工領(lǐng)域的核心技術(shù)之一揍诽。進(jìn)入21世紀(jì)以來,隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,集成電路的需求出現(xiàn)了井噴式的增長。使的對(duì)掩膜的需求急劇增加栗竖，目前制作掩膜的主要技術(shù)是電子束直寫暑脆，但該制作效率非常低下，并且成本也不容小覷狐肢，在這種背景下人們把目光轉(zhuǎn)移到了無掩膜光刻技術(shù)添吗。 備受關(guān)注的無掩膜光刻技術(shù)大概可以分為兩類：1）帶電粒子無掩膜光刻；例如電子束直寫和離子束光刻技術(shù) ...

份名、超薄材料上刻蝕出小于200nm寬度的納米線碟联，這樣超薄、超窄的納米線僵腺，可以保證快速的熱弛豫過程鲤孵。對(duì)于光子到脈沖的轉(zhuǎn)換過程我們看下面這幅圖，展示了光子打在超導(dǎo)材料上想邦，產(chǎn)生熱點(diǎn)變?yōu)橛凶钁B(tài)裤纹，再轉(zhuǎn)變到超導(dǎo)態(tài)的整個(gè)過程。在超導(dǎo)態(tài)下丧没，納米芯片的兩端沒有產(chǎn)生電壓差或者說電壓差很小鹰椒，這時(shí)候，打入一個(gè)光子呕童，在材料上產(chǎn)生熱點(diǎn)漆际，隨著能量的釋放，原本沒有電壓差的兩端夺饲，這時(shí)候產(chǎn)生了電壓差奸汇，并且電壓差持續(xù)增大，直到這個(gè)熱點(diǎn)的能量逐漸降低往声，也就是說的熱弛豫過程擂找，完成這一過程后，超導(dǎo)態(tài)逐漸恢復(fù)浩销，兩端的電壓逐漸減小贯涎，如果將脈沖放大，我們得到下圖的脈沖信號(hào)慢洋。從上面的原理簡述中塘雳，我們暫時(shí)還看不到探測效率如何陆盘。對(duì)于探測效率更共識(shí)的一 ...

這可能是由于刻蝕和遷移過程所引起的。對(duì)于一個(gè)低于2V的注入偏壓來說败明，拉曼光譜與原始光譜相似隘马。然而當(dāng)外加電壓高于3V時(shí)，G峰和D峰都有明顯的增加并且在偏壓增加到3V時(shí)G峰從1580cm-1偏移到1603cm-1妻顶。G峰強(qiáng)度的增加對(duì)于通過注入的摻雜效應(yīng)是一個(gè)顯示酸员，同時(shí)G峰上移23cm-1 表明了成功注入。D峰強(qiáng)度的增加表明注入過程中在石墨烯層缺陷的增加盈包，這增強(qiáng)了注入的過程沸呐。對(duì)于高于4V的偏壓，隨著2D峰的減弱出現(xiàn)了很強(qiáng)的熒光背景呢燥，這進(jìn)一步表明了注入過程中強(qiáng)有力摻雜效應(yīng)崭添。再去除外加電壓之后，石墨烯表面出現(xiàn)了和原始樣品相似的拉曼光譜叛氨。圖1. 離子液體注入多層石墨烯器件的原位拉曼測試：（a）原位拉曼測試過 ...

功率飛秒激光刻蝕工藝實(shí)現(xiàn)了簡單且環(huán)保的 MoS2 QDs 制造呼渣。圖1 MoS2的光譜表征（a）MoS2量子點(diǎn)（紅色）、1T相塊狀MoS2(藍(lán)色)寞埠、2H相塊狀MoS2（紅色）的拉曼光譜（b）典型的MoS2納米片和上述方法制備的MoS2量子點(diǎn)的紫外-可見光譜（c）上述方法制備的MoS2量子點(diǎn)溶液分別在300nm,320nm,340nm和360nm激發(fā)光下的PL光譜上圖a 顯示了 1T 和 2H MoS2 的典型拉曼振動(dòng)屁置，這表明通過 n-BuLi 處理和激光燒蝕步驟成功實(shí)現(xiàn)了相變∪柿可以看出蓝角，1T 相 MoS2 有三種拉曼振動(dòng)，分別對(duì)應(yīng)J1饭冬、J2 和 J3 模式使鹅。由于成功相變到2H相，這些具有代表性的 ...

砂處理昌抠、化學(xué)刻蝕患朱、等離子噴涂和激光加工等。這些加工方式都是通過改變鈦合金表面炊苫，獲得多維度紋理裁厅，凹坑、溝槽侨艾、深孔等幾種形貌組合执虹。結(jié)語：作為人體骨組織的有效替代品，鈦的這些優(yōu)點(diǎn)已經(jīng)被認(rèn)可并被廣泛應(yīng)用唠梨。而鈦合金表面處理卻往往被人們忽視袋励，通過對(duì)鈦合金的表面進(jìn)行處理，改變鈦合金的表面形貌、微結(jié)構(gòu)插龄，可以提高鈦合金的生物相容性，讓人體組織更快速的附著在鈦合金表面生長科展，從而幫助病人恢復(fù)健康均牢。了解更多詳情，請(qǐng)?jiān)L問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.wjjzl.com/three-level-37.html更多詳情請(qǐng)聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光 ...

技術(shù)為氫氟酸刻蝕才睹、噴砂徘跪、硅烷偶聯(lián)化等，一般認(rèn)為2.5%-10%的氫氟酸刻蝕玻璃陶瓷0.5-3 min琅攘，可獲得zui佳粘接強(qiáng)度垮庐，但氫氟酸對(duì)人體具有毒性和強(qiáng)腐蝕性，且當(dāng)已粘固的口內(nèi)陶瓷修復(fù)體斷裂需要重新粘接時(shí)坞琴，氫氟酸因其強(qiáng)腐蝕性無法用于口內(nèi)粘接前處理哨查。Er:YAG激光是一種新出現(xiàn)的口腔治療激光，由于其高效剧辐、安全的切割能力寒亥，在牙科陶瓷材料表面處理方面有著巨大的應(yīng)用前景。1 Er:YAG激光作用于陶瓷材料表面處理的機(jī)制Er:YAG激光（鉺荧关、釔溉奕、鋁、石榴石）是一種水動(dòng)力生物激光系統(tǒng)忍啤，波長為2.94 um加勤。相比其他激光，Er:YAG激光較為突出的特點(diǎn)為可對(duì)硬組織進(jìn)行作用同波，照射時(shí)可精確控制對(duì)深層組織的熱穿透 ...

保圖形的精確刻蝕至關(guān)重要参萄。在光刻過程中卫枝，激光束需要精確地照射到硅片上的特定區(qū)域，以實(shí)現(xiàn)圖形的準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移讹挎。如果激光指向不穩(wěn)定校赤，會(huì)導(dǎo)致圖形位置偏移、尺寸變化等問題筒溃，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的質(zhì)量和性能马篮。其次，激光指向的穩(wěn)定性還關(guān)系到光刻的重復(fù)性和一致性怜奖。在半導(dǎo)體制造中浑测，往往需要對(duì)大量的硅片進(jìn)行光刻處理，這就要求光刻過程具有高度的可重復(fù)性和一致性。如果激光指向不穩(wěn)定迁央，每次光刻的結(jié)果都會(huì)有所差異掷匠，導(dǎo)致產(chǎn)品批次間的性能不一致，增加了制造難度和成本岖圈。因此讹语，激光指向的穩(wěn)定性在不斷提升的精度要求下顯得尤為重要。我們可以通過減小振動(dòng)和降低溫度變化等方式實(shí)現(xiàn)光束的相對(duì)穩(wěn)定蜂科，但這只是一種被動(dòng)的補(bǔ)償方式顽决，而且無法徹底規(guī)避這些干擾。 ...

(ICP)中刻蝕20 μ m寬的多模波導(dǎo)导匣。端面采用韌性切割制備才菠。波導(dǎo)測量使用圖1 a)所示的設(shè)備進(jìn)行。使用量子級(jí)聯(lián)激光器(QCL) (Block Engineering Inc.)在1900-800 cm-1(波長5.3 - 12.9μm)范圍內(nèi)可調(diào)諧作為光源和兩個(gè)硒化鋅物鏡用于輸入和輸出耦合贡定。在獲取透射光譜之前赋访，將QCL設(shè)置為12.9μm，對(duì)準(zhǔn)后在紅外相機(jī)(Xenics-Gobi 640)上對(duì)波導(dǎo)輸出進(jìn)行成像缓待，在TM偏振下的輸出強(qiáng)度分布如圖1b所示进每。模態(tài)強(qiáng)度分布(COMSOL)模擬顯示，沿x軸和y軸的FWHM分別為10.1μm和2.3μm命斧。采用熱電冷卻型碲化汞鎘(MCT)探測器(VIGO系統(tǒng) ...

(ICP)中刻蝕20 μ m寬的多模波導(dǎo)田晚。端面采用韌性切割制備。波導(dǎo)測量使用圖1 a)所示的設(shè)備進(jìn)行国葬。使用量子級(jí)聯(lián)激光器(QCL) (Block Engineering Inc.)在1900-800 cm-1(波長5.3 - 12.9μm)范圍內(nèi)可調(diào)諧作為光源和兩個(gè)硒化鋅物鏡用于輸入和輸出耦合贤徒。在獲取透射光譜之前，將QCL設(shè)置為12.9μm汇四，對(duì)準(zhǔn)后在紅外相機(jī)(Xenics-Gobi 640)上對(duì)波導(dǎo)輸出進(jìn)行成像接奈，在TM偏振下的輸出強(qiáng)度分布如圖1b所示。模態(tài)強(qiáng)度分布(COMSOL)模擬顯示通孽，沿x軸和y軸的FWHM分別為10.1μm和2.3μm序宦。采用熱電冷卻型碲化汞鎘(MCT)探測器(VIGO系統(tǒng) ...

諧振腔通常是刻蝕在基材上的小結(jié)構(gòu)件，在使用泵浦激光驅(qū)動(dòng)時(shí)可以生成光頻梳背苦。雖然MRR的重復(fù)頻率可以達(dá)到很高的水平（圖1b）互捌，但是它們也有重復(fù)頻率波動(dòng)和光頻不穩(wěn)定的問題，這限制了長時(shí)測距的精確度行剂。西安光機(jī)所和華中科技大學(xué)的科研團(tuán)隊(duì)提出的解決方案時(shí)使用一個(gè)光纖光頻梳和一個(gè)MRR組成的DFC系統(tǒng)秕噪，如 圖2所示。在這個(gè)系統(tǒng)中厚宰，一路調(diào)制的二極管激光（ECDL）用于MRR的泵浦源腌巾。在探測用于檢測的樣品前MRR的輸出會(huì)經(jīng)過一個(gè)光纖放大器（EDFA）。光纖光頻梳不僅提供了穩(wěn)定的本振源來用于解調(diào)，同時(shí)十分重要的是提供了參考信號(hào)用于鎖定泵浦激光器澈蝙。Moku:Lab的激光鎖頻/穩(wěn)頻器（圖2中標(biāo)記為“Servo”）用于 ...