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3D超分辨率單分子定位顯微鏡模塊（無需掃描）
采用光學(xué)照射掩模版的方式將圖案轉(zhuǎn)移到掩模版上；而在無掩模光刻中玉掸，對(duì)目標(biāo)圖案的轉(zhuǎn)印不需要掩模版刃麸，而是通過電子束或光學(xué)的方式直接在基片上制作出所需要的圖案，這種方式避免了傳統(tǒng)方式制作掩模版效率低司浪、分辨率低泊业、成本高的缺點(diǎn)把沼。2、何為DMD無掩模光刻吁伺？DMD無掩模光刻是光學(xué)無掩模光刻技術(shù)的一種饮睬，該技術(shù)使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模，借助于DMD對(duì)常規(guī)掩膜予以取代而展開光刻成像篮奄，借助DMD對(duì)光源展開反射式調(diào)制捆愁，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片，進(jìn)而進(jìn)行曝光窟却。DMD無掩模光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是一種高精度加工平臺(tái)昼丑，如下圖所示，主要包括投影光源部分夸赫、DMD光調(diào)制部分菩帝、投影物鏡和光可調(diào)平臺(tái)部分。圖2：法國(guó)Microli ...
殊設(shè)計(jì)的相位掩模版茬腿，從工程化點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù) (E-PSF)出發(fā)呼奢，使用螺旋相位掩模板來控制景深、發(fā)射波長(zhǎng)和精度切平，結(jié)合3DTRAX軟件對(duì)3D圖像進(jìn)行重建和分析控妻，可在不需要掃描的條件下即時(shí)捕獲 3D 信息，得到無與倫比的深度和精度3D圖像揭绑，橫向精度可達(dá)20nm, 軸向精度可達(dá)25nm，成像深度可達(dá)20um郎哭。當(dāng)與其他工具和技術(shù)他匪，包括STORM、PALM夸研、SOFI邦蜜、光片顯微、寬場(chǎng)亥至、寬場(chǎng)顯微悼沈、TIRF、FRET等一起使用時(shí)姐扮，可釋放巨大的潛力絮供，適用于活細(xì)胞、固定細(xì)胞和全細(xì)胞成像茶敏、單分子壤靶、粒子跟蹤和粒子計(jì)數(shù)等應(yīng)用。圖1：SPINDLE2雙通道顯微鏡模塊惊搏，用于同時(shí)多色贮乳、多深度3D成像SPINDLE2可以被很容易地安 ...
擇合適的相位掩模版以實(shí)現(xiàn)基于深度范圍、發(fā)射波長(zhǎng)和信噪比等參數(shù)對(duì)點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)（PSF）的優(yōu)化向拆，更重要的是亚茬，SPINDLE可在無需掃描的情況下在單張圖像中將傳統(tǒng)成像系統(tǒng)的景深擴(kuò)大10倍。在本文中浓恳，我們展示了如何將SPINDLE成像系統(tǒng)與傳統(tǒng)熒光顯微鏡結(jié)合使用以在所有三個(gè)維度（x刹缝、y、z）上實(shí)現(xiàn)亞衍射極限成像奖蔓。SPINDLE可與任何高質(zhì)量的科學(xué)相機(jī)兼容赞草，無論是EMCCD還是sCMOS都可以提供定位顯微鏡所需的高信噪比圖像。使用SPINDLE和DH-PSF相位掩模版對(duì)細(xì)胞微管進(jìn)行三維超分辨成像在本文中吆鹤，我們證明了使用SPINDLE單通道模塊可以實(shí)現(xiàn)高精度厨疙、大深度的超分辨率重建。如圖1所示疑务，使用Doubl ...
的金屬表面（掩模版直徑為20um）沾凄。在20微米的尺度上存在明顯的粗糙度，但在<5微米的尺度上可以看到平滑區(qū)域粗糙表面在微觀水平上呈現(xiàn)出峰狀和光滑區(qū)域（圖2）知允。很明顯撒蟀，在20um尺度上存在明顯的粗糙度，但在<5um尺度上存在光滑區(qū)域温鸽。因此保屯，應(yīng)該可以選擇足夠小的測(cè)量點(diǎn)來減少粗糙度影響。事實(shí)上涤垫，圖3姑尺、4的結(jié)果表明，使用2um測(cè)量點(diǎn)表面粗糙度效應(yīng)實(shí)際上可以消除蝠猬，并且可以可靠地測(cè)量涂層厚度切蟋。粗糙度拓?fù)溥€會(huì)導(dǎo)致微觀層面上涂層厚度的變化——這是測(cè)量退化的潛在來源（我們將在下面回顧）。但較小的光斑尺寸也有助于減少這種情況榆芦。盡可能小的測(cè)量點(diǎn)尺寸并不總是能給出結(jié)果柄粹。光斑尺寸需要根據(jù)特定應(yīng)用進(jìn)行優(yōu)化。圖 ...
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