解釋
中文：無(wú)掩模光刻；英文：maskless lithography的原理卖擅；中文：無(wú)掩模光刻鸣奔；英文：maskless lithography的定義；中文：無(wú)掩模光刻惩阶；英文：maskless lithography是什么挎狸。
一種不采用光刻掩模的光刻工藝。例如断楷，①帶電粒子無(wú)掩模光刻：電子束直寫(xiě)工藝過(guò)程锨匆、離子束直寫(xiě)工藝過(guò)程等；②光學(xué)無(wú)掩模光刻：激光直寫(xiě)冬筒、干涉光刻工藝過(guò)程等恐锣。
