中文：干涉光刻；英文：interference lithography

解釋
中文：干涉光刻觅闽；英文：interference lithography的原理帝雇；中文：干涉光刻；英文：interference lithography的定義蛉拙；中文：干涉光刻尸闸；英文：interference lithography是什么。
 利用雙光束孕锄、多光束的干涉圖樣吮廉，一次曝光或者多次曝光實(shí)現(xiàn)的一種無掩模光刻工藝。常用于周期圖形的制備畸肆，如周期性光柵茧痕、孔陣、點(diǎn)陣恼除、柱陣等圖形踪旷。
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