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并可以根據(jù)自己的需求靈活設(shè)計(jì)掩膜盛末。
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光刻是指利用光學(xué)復(fù)制的方法把圖形印制在光敏記錄材料上否淤，然后通過(guò)刻蝕的方法將圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上來(lái)制作電子電路的技術(shù)。其中光刻系統(tǒng)被稱為光刻機(jī)棠隐，帶有圖形的石英板稱為掩膜石抡，光敏記錄材料被稱為光刻膠或抗蝕劑。具體光刻流程如下圖所示
光刻技術(shù)是集成電路制造助泽、印刷電路板制造以及微機(jī)電元件制造等微納加工領(lǐng)域的核心技術(shù)之一。進(jìn)入21世紀(jì)以來(lái),隨著電子信息產(chǎn)業(yè)的高速發(fā)展,集成電路的需求出現(xiàn)了井噴式的增長(zhǎng)嗡贺。使的對(duì)掩膜的需求急劇增加隐解，目前制作掩膜的主要技術(shù)是電子束直寫，但該制作效率非常低下诫睬，并且成本也不容小覷煞茫，在這種背景下人們把目光轉(zhuǎn)移到了無(wú)掩膜光刻技術(shù)。
備受關(guān)注的無(wú)掩膜光刻技術(shù)大概可以分為兩類：1）帶電粒子無(wú)掩膜光刻摄凡；例如電子束直寫和離子束光刻技術(shù)等。2）光學(xué)無(wú)掩膜技術(shù)亲澡；例如DMD無(wú)掩膜光刻技術(shù)钦扭、激光直寫、干涉光刻技術(shù)床绪、衍射光學(xué)元件光刻技術(shù)等客情。
其中DMD無(wú)掩膜光刻技術(shù)是從傳統(tǒng)光學(xué)光刻技術(shù)衍生出的一種新技術(shù)，因?yàn)槠?mark class="span_mark" data-type="1">曝光成像的方式與傳統(tǒng)投影光刻基本相似裹匙，區(qū)別在于使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩膜，其主要原理是通過(guò)計(jì)算機(jī)將所需的光刻圖案通過(guò)軟件輸入到DMD芯片中末秃，并根據(jù)圖像中的黑白像素的分布來(lái)改變DMD芯片微鏡的轉(zhuǎn)角概页，并通過(guò)準(zhǔn)直光源照射到DMD芯片上形成與所需圖形一致的光圖像投射到基片表面，并通過(guò)控制樣品臺(tái)的移動(dòng)實(shí)現(xiàn)大面積的微結(jié)構(gòu)制備练慕。設(shè)備原理圖圖下圖所示惰匙。相對(duì)于傳統(tǒng)的光刻設(shè)備，DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)無(wú)需掩膜项鬼，節(jié)約了生產(chǎn)成本和周期并可以根據(jù)自己的需求靈活設(shè)計(jì)掩膜。相對(duì)于激光直寫設(shè)備劲阎，DMD芯片上的每一個(gè)微鏡都可以等效看成一束獨(dú)立光源绘盟，其曝光的過(guò)程相當(dāng)于多光束多點(diǎn)同時(shí)曝光可極大提高生產(chǎn)效率特別是對(duì)于結(jié)構(gòu)繁瑣的圖形。
上海昊量光電設(shè)備有限公司為Mircolight3D公司的國(guó)內(nèi)代理，提供高性價(jià)比DMD無(wú)掩膜光刻機(jī)龄毡。
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