DMD無掩模光刻是光學(xué)無掩模光刻技術(shù)的一種，該技術(shù)使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模折晦，借助于DMD對常規(guī)掩膜予以取代而展開光刻
成像钥星，借助DMD對光源展開反射式調(diào)制，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片筋遭，進而進行曝光打颤。
何為DMD?
DMD即“Digital Micromirror Device”數(shù)字微鏡器件,是一種基于MEMS技術(shù)的微反射鏡陣列單元，單元數(shù)量可達百萬量級漓滔，是一種
電子輸入编饺、光學(xué)輸出的微機電系統(tǒng) (MEMS)，開發(fā)人員可借助該系統(tǒng)執(zhí)行高速响驴、高效及可靠的空間光調(diào)制透且。
圖1：DMD單個工作單元圖示
1、何為無掩模光刻豁鲤？
無掩膜光刻即不采用光刻掩模板的光刻技術(shù)秽誊。在傳統(tǒng)光刻過程中，需要采用光學(xué)照射掩模版的方式將圖案轉(zhuǎn)移到掩模版上琳骡；而在無掩模
光刻中锅论，對目標(biāo)圖案的轉(zhuǎn)印不需要掩模版，而是通過電子束或光學(xué)的方式直接在基片上制作出所需要的圖案楣号，這種方式避免了傳統(tǒng)方式
制作掩模版效率低最易、分辨率低怒坯、成本高的缺點。
2藻懒、何為DMD無掩模光刻剔猿？
DMD無掩模光刻是光學(xué)無掩模光刻技術(shù)的一種，該技術(shù)使用數(shù)字DMD代替?zhèn)鹘y(tǒng)的掩模嬉荆，借助于DMD對常規(guī)掩膜予以取代而展開光刻
成像归敬，借助DMD對光源展開反射式調(diào)制，把涉及的虛擬數(shù)字掩膜移至硅晶圓基片鄙早，進而進行曝光汪茧。
DMD無掩模光刻系統(tǒng)本質(zhì)上是一種高精度加工平臺，如下圖所示限番，主要包括投影光源部分陆爽、DMD光調(diào)制部分、投影物鏡和光可調(diào)平臺
部分扳缕。
圖2：法國Microlight3D公司DMD無掩模光刻系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖
3、DMD無掩模光刻相比傳統(tǒng)光刻有什么優(yōu)點别威？
借助DMD無掩模光刻成像的效率是傳統(tǒng)光刻無法比擬的躯舔，其光刻成像過程完全受計算機控制，因而便于更改數(shù)字虛擬掩膜省古，并且DMD
的成本較低粥庄，可以循環(huán)使用，極大的簡化了傳統(tǒng)光刻的流程豺妓，也大大降低了光刻加工的成本惜互。
4、Smartprint UV無掩模光刻系統(tǒng)有什么優(yōu)勢琳拭？
Smartprint UV無掩模光刻系統(tǒng)源自法國Smart Force Technologies (SFT)公司训堆，廣泛應(yīng)用在微尺度2D打印的各個領(lǐng)域。SFT公司于
2019年被法國高分辨率2D&3D打印系統(tǒng)制造商Microlight3D公司收購白嘁。
圖3：Smartprint UV無掩模光刻系統(tǒng)外觀坑鱼，尺寸52×52×69mm3
SmartPrint UV是基于DMD投影技術(shù)，與廣泛的抗蝕劑和基材兼容絮缅。
SmartPrint UV可以在微米分辨率下產(chǎn)生任何二維形狀鲁沥，而不需要硬掩模。
SmartPrint UV適用于任何需要表面微觀圖案的應(yīng)用領(lǐng)域耕魄，如微流控画恰、生物技術(shù)和微電子。
特點匯總：
分辨率可至1.5um
兼容i線吸奴、h線和g線光刻膠
兼容各種基材（石英允扇、玻璃缠局、金屬、塑料）
可更換物鏡（1×蔼两、2.5×甩鳄、5×、10×）-可調(diào)視場和分辨率
兼容5*5英寸樣品
臺式超緊湊設(shè)計
核心規(guī)格：
| 標(biāo)準(zhǔn)版本 | 高級版本 | |
| 光源 | 曝光波長：385nm额划；校準(zhǔn)波長：590nm | |
| 最小特征尺寸 | 1.5um | |
| 校準(zhǔn)精度（1cm2打印區(qū)域） | 2um | 1um |
| 最大曝光范圍 | 70×70mm2 | 110×110mm2 |
| 基材尺寸 | 可達4英寸 | 可達5*5英寸 |
| 直寫速度 | 77mm2/min | 220mm2/min |
| 系統(tǒng)尺寸 | 52×52×69mm2 | |
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