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激光干涉儀

點衍射激光干涉儀-大口徑(≥700mm)高精度(≤0.6nm RMS)無出口限制皮米級精度激光干涉儀相位偏折術(shù)/相位偏折測量系統(tǒng)λ/1000超高精度激光干涉儀!納米表面輪廓儀高分辨率激光干涉儀馬赫增德爾/邁克爾遜光纖干涉儀Kaleo MultiWAVE多波長動態(tài)干涉儀皮米級絕對距離測量干涉儀通用光學測量儀——波前/傾角/輪廓測量三合一 顯示全部
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納米表面輪廓儀

  • 納米表面輪廓儀
  • 納米表面輪廓儀
非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征的高性價比工具

所屬類別:光學檢測設(shè)備 ? 激光干涉儀

所屬品牌:

產(chǎn)品負責人:

姓名:谷工(Givin)

電話:185 1625 1863(微信同號)

郵箱:zonghao-gu@auniontech.com

納米表面輪廓儀

IMOS納米表面輪廓儀實現(xiàn)了精確荆针、定量、iso兼容颁糟、非接觸式表面測量和表征微和納米尺度的表面特征祭犯,在短短幾秒鐘內(nèi)可捕獲多達200萬個數(shù)據(jù)點。選擇正確的光學輪廓儀系統(tǒng)取決于您的應用程序的要求滚停,包括速度、精度粥惧、垂直范圍键畴、自動化和靈活性。

IMOS光學表面輪廓儀在非接觸式光學表面輪廓方面提供了強大的通用性。有了該系統(tǒng)起惕,它可以方便快捷地測量各種表面類型涡贱,包括光滑、粗糙惹想、平坦问词、傾斜和階梯。所有的測量都是無損的嘀粱,快速的激挪,不需要特殊的樣品準備。納米表面輪廓儀系統(tǒng)的核心是部分相干干涉技術(shù)锋叨,它提供亞納米精度測量更廣泛的表面比其他商業(yè)可用技術(shù)垄分。


IMOS 納米表面輪廓儀提供了不同的應用程序的特殊價值,如平直娃磺,粗糙度薄湿,波浪形,臺階高度等等偷卧。
IMOS 納米表面輪廓儀配備了一個變焦頭豺瘤,可以填充離散變焦光學定制的系統(tǒng)。樣本分段配置范圍從完全自動化到完全自動化的編碼行程听诸。

IMOS 納米表面輪廓儀提供高精度測量坐求,易于使用,快速測量蛇更,及極具吸引力的價格瞻赶,使其成為多功能3D光學輪廓儀的理想選擇。


主要優(yōu)點:

  • 納米模式下的Z軸分辨率:

           ~ 30pm微起伏模式(使用原子級光滑鏡)

             ~ 0.3um微地貌模式下

  • 外形緊湊;

  • 快速響應;

  • 抗外部振動;

  • 測量過程自動化程度高;

  • 特殊的用戶友好的界面;

  • 高質(zhì)量的圖形界面派任,以工作與多計劃三維表示的測量結(jié)果;

  • 廣泛的可能性配置的顯微鏡砸逊,以各種形態(tài)-邏輯的測量表面;

  • 能夠工作在兩種模式:微浮雕和納米浮雕;

  • 獨特的存儲系統(tǒng)和測量結(jié)果的系統(tǒng)化。


在硅基板上的Pd薄膜掌逛,高度100nm硅晶體表面的階地师逸,高度為0.314nm在硅基板上的Pd薄膜,高度100nm

微起伏模式下的測量結(jié)果

IMOS納米表面輪廓儀組成 

                    光電探測器*
矩形ccd-1392*1040 px
光源 * 
LEDeff = 630 nm)
顯微物鏡*
20x (or 10x, 5x) 2 items
放大率不變
                                     壓電掃描振鏡

位移臺


  • 1d (Z) range 50 mm 

  • 2d (XY) range 75x50 mm


控制器
  • CCD-相機抓幀器

  • 位移臺控制器

  • 設(shè)備控制器 

硅晶體表面的階地豆混,高度為0.314nm   
                                       計算機 
軟件
  • Software for working with IMOS

  • System / MS Windows

 
認證口徑篓像,標稱高度值為101nm±3%
* – 按客戶需求 


微地貌模式下的測量結(jié)果

技術(shù)指標

                             測量區(qū)域 
0,4x0,3 mm2 (for 20X
像素尺寸 
0,3 μm (for 20X
橫向分辨率
Not worse 1 μm 
測量模式 
  • 微地貌模式

  • 微起伏模式 

認證口徑, 厚 40 ± 1,2 μm   
                            Z軸分辨率
  • 微地貌模式 ~ 0,3 μm

  • 微起伏模式 ~ 30 pm (with atomically smoth mirror) 

測量范圍 
  • 微地貌模式 up to 50 mm

  • 微起伏模式 up to 20 μm 

測量速度 
  • 微地貌模式 ~ 4 μm/s

  • 微起伏模式 ~ 20 μm/10s 

衍射元件, 厚 3,7 μm   



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