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Microlight3D推出新一代智能UV打印系統(tǒng)——全新DMD無掩模光刻機

發(fā)布時間:2021-03-05 08:49:00 瀏覽量:6837 作者:Givin

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Microlight3D是一家生產用于工業(yè)和科學應用的高分辨率微尺度2D和3D打印系統(tǒng)的專業(yè)制造商。智能UV打印(SP-UV)系統(tǒng)骑晶,是該公

司新產品痛垛。這是一種配有一個385 nm的紫外LED光源,基于DMD(Digital Micromirror Device)的全新無掩模光刻系統(tǒng)桶蛔,因此

SP-UV可以兼容所有標準的微電子光刻膠匙头,包括微流體應用中不可或缺的i-line光阻劑SU-8。這一特點為半導體加工領域的開發(fā)人員仔雷,

在光刻膠材料的選擇上提供了更加廣闊的空間蹂析。



DMD無掩膜光刻機SP-UV的優(yōu)勢之一是對DMD光學投影技術的應用。這一技術在提高直寫精度和速度的同時朽寞,提供了四種不同的直

寫分辨率识窿。搭配Microlight3D的“快速切換”物鏡系統(tǒng),僅需2秒就能完成分辨率切換脑融。



Microlight3D首席執(zhí)行官Denis Barbier表示:“Microlight3D的SP-UV技術可以與更廣泛光刻膠材料相兼容喻频。在為無掩模光刻的應用

開拓了新的領域的同時,滿足了開發(fā)人員對多功能性和可負擔性的需求肘迎∩拢”“我們使芯片實驗室和其他領域(光電子學、MEMS妓布、自旋

電子學)的研究人員可以更容易姻蚓、更快速地在較大表面積上(120x120 mm2),加工微米分辨率的復雜結構匣沼。由于該系統(tǒng)集成度非常高狰挡,

使各種用戶都可以無障礙的使用,我們也因此希望SP-UV在微流體以及各個領域中的小批量生產上開辟新的市場機會释涛〖尤”



無掩膜光刻機SP-UV的另一大優(yōu)勢是具備精心挑選的物鏡焦距范圍,以允許較長工作距離(可達3厘米)唇撬。這意味著SP-UV可以用于非標

準基底它匕,包括那些彎曲(比如光學鏡片)、柔性或者較厚的窖认。而競品機型的工作距離通常較短豫柬,在處理非平坦基底時非常困難告希。



無掩膜光刻機SP-UV的385nm紫外光源配有一個反饋相機铛只,使聚焦更容易难裆,并同時用于檢查和校準摸屠。作為一種新的投影技術蚤氏,385nm

的LED光源與高性能電動位移臺相結合,使開發(fā)人員能夠在微米分辨率的水平上 進行快速微結構制造授瘦。



該系統(tǒng)配套的高性能電動位移臺二拐,提高了準精度的同時茂翔,也降低了拼接誤差驰吓。設備核心被封裝在具有紫外線保護的包裝的空間內,使其

可以在通常環(huán)境下安全使用系奉。


無掩膜光刻機SP-UV可以達到目前最快的直寫速度等級(高達1000mm2/min)檬贰;當分辨率為6μm時,其速度是其他品牌類似產品的兩倍缺亮,而當分辨率為15μm時翁涤,其速度可達其他品牌類似產品的10倍。


關于生產商:

Microlight3D是高分辨率 微尺度 2D和3D打印系統(tǒng)的專業(yè)制造商萌踱。Microlight3D致力于滿足科學家和工業(yè)研究人員新的設計加工需

求葵礼,以及高精度生產任何幾何或非幾何形狀的微型零件。通過結合2D和3D微納打印技術并鸵,Microlight3D為客戶提供了制造更大尺寸復

雜部件的靈活性鸳粉。它的目標是為未來的新興領域提供更快、更復雜的微型制造系統(tǒng)园担。Microlight3D的設備現用于微光學届谈、微流體、微

機器人弯汰、超材料艰山、細胞生物學和微電子學等。


Microlight3D在2016年成立于法國格勒諾布爾咏闪,在Grenoble Alpes大學(UGA)進行了超過15年的3D微納打印技術研發(fā)曙搬。


上海昊量光電作為Microlight3D在中國大陸地區(qū)代理商,為您提供專業(yè)的選型以及技術服務鸽嫂。對于Microlight3D有興趣或者任何問題纵装,都歡迎通過電話、電子郵件或者微信與我們聯(lián)系:郭工18621161670微信同號



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