中文:光致抗蝕劑距芬;英文:photo resist

關(guān)鍵詞
解釋
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簡稱“抗蝕劑”银舱。又稱“光刻膠”。光照后能改變抗蝕能力的高分子化合物跛梗。分為正性光致抗蝕劑和負(fù)性光致抗蝕劑寻馏。正性光致抗蝕劑受光照部分發(fā)生降解反應(yīng)而能為顯影液所溶解。負(fù)性光致抗蝕劑受光照部分產(chǎn)生交鏈反應(yīng)而成為不溶物茄袖,非曝光部分能被顯影液溶解操软。
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