。MNPA的反射光譜顯示了銀金屬的典型行為柠偶。MNPA基板的反射率非常低情妖，其Max反射率僅為26.7%，表明形成的具有較大表面粗糙度的納米多孔結(jié)構(gòu)有利于入射光與銀材料之間的相互作用嚣州。因此鲫售，MNPA有望成為一種非常有前途的SERS基底。MNPA作為SERS基板的應(yīng)用圖3（a该肴，b）顯示了10?6M 結(jié)晶紫 （CV） 和羅丹明6G （R6G） 探針分子分別在MNPA 基板上的拉曼光譜情竹。為了進行比較，我們收集了Ag2O上的拉曼強度為10?6M CV 探針分子匀哄。沒有觀察到CV的峰值秦效。此外，還收集了硅晶圓上的拉曼強度為10?2M CV和R6G探針分子涎嚼。MNPA對兩種分子表現(xiàn)出顯著的SERS增強特性阱州。我們選擇 ...
和不同的物理反射光譜，用于研究TMDs薄膜生長法梯。使用光學觀測原位研究了鹽輔助TMD合成苔货。在本文中，開發(fā)的一種原位研究系統(tǒng)來研究基材MoS2上單層的SiO2/ SiCVD生長立哑。使用原位拉曼光譜和光學成像揭示了MoS2單層在高溫下的反應(yīng)動力學機制夜惭。圖1。MoO3高溫硫化的原位研究铛绰。（a） 允許對單層MoS2CVD生長進行成像和光譜收集的原位研究系統(tǒng)的照片和說明诈茧。（b） 高溫S蒸汽硫化MoO3 2D薄片的原位光學圖像。比例尺為40μm捂掰。（c） MoO32D薄片與S蒸汽反應(yīng)的溫度相關(guān)拉曼光譜敢会，如（b）所示曾沈。520 cm?1處的強峰歸因于硅襯底的特征峰。（d） 在550°C下硫化3分鐘的MoO32D薄片 ...
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