反射-近紅外反射光譜。鹵素光源為土壤樣品提供一致的照明矮燎，接觸式探頭附件以56°的視角測量反射率定血。將每個樣品放入三個培養(yǎng)皿中（每個培養(yǎng)皿的深度為2厘米，直徑為5厘米）诞外。用刮刀將培養(yǎng)皿中的土壤輕輕地調(diào)平澜沟，形成光滑的土壤表面，從而保證了較大的光譜信噪比峡谊。在光譜采集之前和期間倔喂，儀器由100%陶瓷參考面板手動校準(zhǔn)。每個土壤樣品獲得30個光譜靖苇，并將其平均成一個光譜席噩，用于進(jìn)一步的數(shù)據(jù)分析。獲得原始反射光譜贤壁，然后轉(zhuǎn)換為吸光度單位（log10（1 / R）悼枢，其中R代表反射率數(shù)據(jù)）。MIR光譜收集在4000-650 cm–1光譜范圍脾拆，光譜分辨率和采樣間隔為 4 cm–1和 2 cm–1馒索。在對每個樣品進(jìn)行光譜掃描之 ...
k模型參數(shù)的反射光譜來確定，不斷調(diào)整這些數(shù)據(jù)名船，直到計(jì)算反射率和測量反射率相匹配绰上。n和K的建模有許多數(shù)學(xué)模型描述波長的函數(shù)n和k。為某種薄膜選擇模型時渠驼，在準(zhǔn)確描述相關(guān)波長范圍n和k的情況下蜈块，變量越少越好。一般來講，不同材料（如：電介質(zhì)百揭，半導(dǎo)體爽哎，金屬和非金屬）的光學(xué)常數(shù)隨波長有很大的不同，需要不同的模型來描述器一。電介質(zhì) (K=0）模型通常有三個變量课锌，而非電介質(zhì)有五個或更多的變量。下面的例子祈秕，是兩層薄膜結(jié)構(gòu)的模型渺贤，共考慮了18個可變量∏朊柯西：擬合參數(shù)：A,B,C（共3個）無定形半導(dǎo)體：擬合參數(shù)：（共5癣亚，9或13個）晶狀半導(dǎo)體：擬合參數(shù)：（共4，7或10個）如果您對膜厚測量有興趣获印，請?jiān)L問上海昊量光電的官 ...
750) 的反射光譜述雾。橢圓偏光法對非常薄的薄膜更敏感，兩種不同的偏振測量提供雙倍信息用于分析兼丰。此外玻孟，橢圓偏光法可進(jìn)行多種不同入射角度的反射光譜測量，因而產(chǎn)生更多分析信息鳍征。而由昊量光電代理膜厚測量儀可提供的光譜反射系統(tǒng)黍翎。如果您不確定光譜反射法還是橢圓偏光法更適合您的需要，請與我們聯(lián)系艳丛。如果光譜反射法不能滿足您的要求匣掸，我們將非常高興地為您引薦梢圓偏光法的有名廠商。如果您對膜厚測量有興趣氮双，請?jiān)L問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.wjjzl.com/three-level-56.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光電產(chǎn)品 ...
測量和計(jì)算的反射光譜都被顯示出來碰酝，這樣很容易判斷測量的完整性。測量的n和k曲線也可以戴差。半導(dǎo)體制程薄膜實(shí)驗(yàn)室研究/制程Semiconsoft測量系統(tǒng)通常用于測量氧化物送爸，氮化物，光阻暖释，及其它半導(dǎo)體制程薄膜的厚度袭厂，粗糙度，和光學(xué)常數(shù)球匕。除了單層薄膜應(yīng)用纹磺，許多兩層和三層膜也可以測量。例如亮曹，SOI應(yīng)用中的硅基上的多晶硅/二氧化硅薄膜橄杨。下邊的屏幕顯示一個典型建模結(jié)構(gòu)的 測量結(jié)果秘症。在線測量靈活的光學(xué)探頭裝置使在線厚度測量成為可能。需要的只是光纖接入以便測量垂直入射光反射率讥珍。請與我們聯(lián)系以便了解更詳細(xì)的與您的設(shè)各相接的信息。光學(xué)鍍膜防刮傷和/或減反涂層是薄膜在很多工業(yè)中的應(yīng)用窄瘟。汽車塑料衷佃，鏡片和很多塑料包裝都使用 ...
光學(xué)方法，如反射光譜法和橢偏法蹄葱。在某些情況下氏义，例如當(dāng)薄膜生長在透明的襯底上時，這些光學(xué)技術(shù)可能具有挑戰(zhàn)性图云，不能提供準(zhǔn)確的結(jié)果惯悠。藍(lán)寶石上硅(SOS)薄膜就是一個例子。對于原子薄的二維(2D)材料竣况，原子力顯微鏡(AFM)是常用的厚度測量方法克婶，然而，AFM是耗時的丹泉，并且只能給出不同位置之間的相對厚度差異情萤。光學(xué)對比也是表征多層二維材料(如石墨烯3、4和過渡金屬二鹵化物(TMDs))層數(shù)的強(qiáng)大工具摹恨。然而筋岛，光學(xué)對比方法僅限于極少數(shù)(<10?15)層。拉曼光譜是一種基于光在材料振動模式下的非彈性散射的光學(xué)光譜技術(shù)晒哄，常用于表征薄膜和原子層材料拉曼光譜在物理化學(xué)中用于指紋材料睁宰，探測結(jié)構(gòu)和結(jié)晶度，非接觸式溫 ...
分為了檢測漫反射光譜寝凌，該儀器采用德國INSION公司的微型近紅外光譜儀NIR1.7柒傻，其測量范圍為 900 nm~ 1700 nm，像素分辨率為 8 nm（光學(xué)分辨率16nm）较木。 該光譜儀基于InGaAs陣列探測器（128像元）和預(yù)集成讀出電子器件诅愚，在精度、靈敏度和信噪比 (SNR) 方面提供高性能劫映。 光譜儀的所有參數(shù)都可以由用戶設(shè)置和優(yōu)化违孝，以滿足不同應(yīng)用的具體要求。NIR1.7 OEM模塊包括基于16位分辨率的模數(shù)轉(zhuǎn)換器的讀出電子器件 (BIM-NIRP)泳赋。 光譜分析通過空腔波導(dǎo)設(shè)計(jì)進(jìn)行雌桑，無任何移動部件，出廠后無需再校準(zhǔn)祖今。如圖 3 所示校坑，光通過光纖耦合到光譜儀拣技，直至光譜儀入口狹縫。圖3.Ins ...
技術(shù)耍目，通過將反射光譜或透射光譜與已建立的光譜特征相匹配膏斤，來識別和定量樣品中的各種化學(xué)成分。該技術(shù)用途廣泛邪驮，應(yīng)用于工業(yè)莫辨、生命科學(xué)、醫(yī)療和科學(xué)等一系列市場領(lǐng)域毅访。近紅外光譜(NIRS)用于食品和飲料生產(chǎn)沮榜、制藥制造和聚合物合成等行業(yè)的原材料和zui終產(chǎn)品的質(zhì)量控制和無損檢測。該技術(shù)支持從驗(yàn)收測試到過程控制的所有內(nèi)容的快速喻粹、無損分析蟆融。正在開發(fā)的小型近紅外光譜裝置將使消費(fèi)者能夠監(jiān)測食物中的成分，在超市檢查食物的新鮮度守呜，并驗(yàn)證藥物質(zhì)量型酥。功能近紅外光譜(fNIRS)利用近紅外光(650-1000 nm)對組織氧合進(jìn)行無創(chuàng)、連續(xù)監(jiān)測查乒。這項(xiàng)技術(shù)zui初是為了檢測大腦中的血紅蛋白變化來評估氧飽和度而開發(fā)的冕末。顱骨阻擋 ...
涂覆PCB的反射光譜圖2 PCB測量區(qū)圖3 測量結(jié)果:18.4μm涂層和0.6μm界面層圖4 PCB上的測量區(qū)域(硅區(qū)域灰色方形)圖5 測量結(jié)果(面積圖4):層厚18.6μm，界面層厚0.7μm例2:測量PCBA上的疏水涂層圖6 測量位置圖7 測量點(diǎn)(圖6)在20倍放大圖8 模型與測量數(shù)據(jù)的擬合測量結(jié)果:層厚535 nm如果您對膜厚測量儀感興趣侣颂，請?jiān)L問上海昊量光電官方網(wǎng)站：http://www.wjjzl.com/three-level-56.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商档桃，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制 ...
表面粗糙度對反射光譜影響的模擬（圖1）表明憔晒，對于RMS>100nm藻肄，干涉圖樣顯著退化。在這些條件下測量厚度變得具有挑戰(zhàn)性拒担。圖1 不同表面粗糙度的5um聚合物薄膜的反射光譜(700nm-1700nm)（模擬）嘹屯。對于光散射，有一個特征从撼，即在較短波長下加速退化（強(qiáng)度和干涉）表面粗糙度會導(dǎo)致光散射增加州弟。這導(dǎo)致鏡面反射率降低和干擾減弱。編織長度越短低零，光散射越明顯婆翔。因此，長可見光和近紅外(NIR)波長范圍(700-1700nm)更適合表面粗糙度的應(yīng)用掏婶。表面粗糙度對反射光譜影響的模擬（圖1）表明啃奴，對于RMS>100nm，干涉圖樣顯著退化雄妥。在這些條件下測量厚度變得具有挑戰(zhàn)性最蕾。圖2 粗糙度為0.5u ...
的半透明性依溯。反射光譜：鋼板上的薄（~150nm）丙烯酸涂層測量汽水罐上的丙烯酸涂 層（約 1um 厚度）為什么使用MProbe Vis瘟则？1.快速可靠的測量2.經(jīng)濟(jì)型系統(tǒng)黎炉，具有持久光源（使用壽命10000 小時）3.用戶友好且強(qiáng)大的軟件4.400nm -1000nm 波長范圍zui適合這些測量MPROBE VIS：測量鋼板上的薄丙烯酸涂層基本規(guī)格：波長范圍：400-1000nm波長分辨率：<2 nm精度：<0.01nm或0.01%精度：<1nm或0.2%測量：< 100ms（典型值，取決于樣品反射率）光斑尺寸：1mm帶聚焦透鏡和微調(diào)或定制探頭的通用樣品臺了解更多膜厚測量儀 ...
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