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設計的氣體源分子束外延(GSMBE)在n-InP基板上生長我們的結(jié)構(gòu)斗这。GSMBE反應器專門用于QCL的生長。反應器定期維護啤斗，以確保始終如一的高材料質(zhì)量表箭。對每個生長進行生長后表征，以確定設計參數(shù)和監(jiān)測生長條件钮莲。利用掃描電子顯微鏡和高分辨X射線衍射儀對薄膜的厚度和組成進行了表征免钻。實驗和模擬(X ' Pert外延)激光芯X射線衍射曲線如圖2所示。這兩條曲線具有很好的一致性崔拥，確定了材料的組成极舔。在X射線中，低背景和高階超晶格的尖峰表明链瓦，超晶格中應變的增加伴隨著尖銳的界面拆魏，衛(wèi)星峰的半大全寬(FWHM)小為21.2弧秒。圖2. 30級激光芯的實驗和模擬x射線衍射曲線在過去的幾年里澡绩，人們進行了一系列的 ...
合金薄膜通過分子束外延生長在500 μm取向藍寶石(0001)襯底上的12 nm Pt緩沖層上稽揭，采用電子光刻技術制備了厚度為15 nm的CoPt3點俺附。它們具有較大的垂直磁晶各向異性和鐵磁行為肥卡，其特征是定義良好的平方磁滯回線，矯頑力場為±3.7 kOe事镣。圓點的直徑可在0.2 ~ 1 μm范圍內(nèi)變化步鉴。下面只給出1 μm點的結(jié)果。圖1實驗配置能成像納米結(jié)構(gòu)的形貌以及磁化的動力學璃哟。圖1為泵脈沖激勵后直徑為1μm的CoPt3點在不同時間延遲下的微分磁化圖像氛琢。注意，在當前的測量中随闪，激發(fā)不是固定在點的中心阳似，而是在成像過程中與探針光束一起移位。圖a铐伴、b和c的序列表明撮奏，可以監(jiān)測磁點磁化的空間動態(tài)。了解更多詳情当宴， ...
合金薄膜通過分子束外延生長在沉積在500 um取向藍寶石(0001)襯底上的12 nm Pt緩沖層上畜吊，通過電子光刻制成的圓盤的直徑為0.2 ~ 1m，圓盤之間的距離為0.5 ~ 2um户矢。圖2圖2(a)表示時間的變化泵浦激勵密度為4 mJ cm?2玲献，外加磁場設置為3.5 kOe，使靜態(tài)磁化達到飽和。插圖描繪了超快磁化動力學的詳細視圖捌年。圖2(b)表示類似的曲線瓢娜，但激發(fā)密度為8 mJ cm?2。初始退磁發(fā)生在泵浦脈沖期間礼预，對應于自旋的激光加熱恋腕，發(fā)生在電子的熱化過程中由于探針脈沖持續(xù)時間為180秒，這里的熱化過程沒有得到解決逆瑞。注意荠藤，對于zui大激勵密度[圖2(b)]，初始退磁完成获高。然后再磁化發(fā)生在兩個 ...
橢偏儀在位表征電化學沉積的系統(tǒng)搭建（一）-基本原理利用橢偏儀可以精確測量薄膜的厚度和光學常數(shù)哈肖，其測量原理基于不同偏振光(S，P)與材料的作用念秧。如圖1-1所示的單層薄膜模型中淤井，所測的薄膜在襯底上，zui上層為空氣摊趾，薄膜兩側(cè)介質(zhì)都是半無限大币狠，且薄膜上下表面皆是理想光滑表面，三種介質(zhì)皆為均勻砾层、各向同性介質(zhì)漩绵。在實際測量過程中，單層模型的三種介質(zhì)通常指的是空氣肛炮、待測薄膜和基底止吐。圖1-1 光波在多層膜上的反射與透射光波在單層膜上的反射和透射示意圖如圖1-1所示。定義入射光波矢量E在垂直于入射面上的分量為P光侨糟，在入射面上的分量為S光碍扔。由折射定律及菲涅耳定律知、秕重、的關系為：上述式子中不同，n1是空氣的折射率(1. ...
橢偏儀在位表征電化學沉積的系統(tǒng)搭建（二）-在位監(jiān)控原理1.橢偏儀的在位監(jiān)控半導體工藝比如CMOS的制作過程，會涉及到結(jié)構(gòu)或者厚度的監(jiān)控溶耘。例如在光刻前后二拐，或者沉積與腐蝕過程，需要控制薄膜的厚度汰具。而橢偏譜可以快速且無損傷進行測量卓鹿，并且其測試精度可以達到原子級別，因此廣泛應用于半導體制備工藝的在位監(jiān)控中留荔。比如吟孙，典型的32nmCMOS制做過程中大概會需要100次厚度的測試控制澜倦，而其中就有80次厚度測試需要利用橢偏譜對其厚度進行監(jiān)控。通常要解構(gòu)薄膜的厚度杰妓，會涉及到有效介質(zhì)模型近似和Drude+Lorentz Oscillator模型的使用藻治。利用橢偏儀不僅可以得到厚度信息，還可以得到薄膜的光學性質(zhì)等信息巷挥， ...
驗表明桩卵，對于分子束外延生長的單層和雙層InSe，價帶zui大值和zui小值的能量分離為~ 100 meV倍宾。這和的寬度在同一個數(shù)量級上PL(圖1雏节、2a和2b)表明低能尾的極化減少可能是由于價帶的散射。如果您對磁學測量有興趣高职，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.wjjzl.com/three-level-150.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關于昊量光電：上海昊量光電設備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商钩乍，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器怔锌、光學測量設備寥粹、光學元件等，涉及應用涵蓋了材料加工埃元、光通訊涝涤、生物醫(yī)療、科學研究岛杀、國防阔拳、量子光學、生物顯微楞件、物聯(lián)傳感衫生、激光 ...
1994年由分子束外延(MBE)生長的QCL中首次低溫激光演示后不到10年就可用于實際應用裳瘪。這一發(fā)展的關鍵步驟包括2001年QC激光器的RT連續(xù)操作演示土浸，隨后，2005年使用MOCVD技術生長和制造的QC激光器的室溫連續(xù)操作彭羹，這是工業(yè)III-V半導體制造的選擇平臺黄伊。今天，使用MBE和MOCVD技術生長和制造QC激光器派殷。盡管多年來MBE的增長还最，特別是氣源MBE，在已發(fā)表的z佳性能方面保持了ling先優(yōu)勢毡惜，特別是在MWIR中拓轻，但對于許多實際應用目的而言，MOCVD增長可獲得的性能足夠好经伙，并且允許更靈活的制造設置扶叉，特別是在工業(yè)環(huán)境中。如上所述，第1個RT連續(xù)波QC激光器也是LWIR激光器枣氧，在300K ...
OCVD)和分子束外延(MBE)兩種方法溢十，在低摻雜InP:S襯底上生長出具有100次重復活性注入?yún)^(qū)的應變平衡InGaAs/InAlAs激光結(jié)構(gòu)。電致發(fā)光器件采用深蝕刻达吞、直徑130μm的半圓形平臺张弛，頂部觸點為Ti/Pt/Au，底部觸點為退火的Ge/Au/Ni/Au酪劫，并覆蓋Ti/Au吞鸭。將Fabry-Perot激光器制作成雙溝槽深蝕刻脊波導激光器，采用380nm SiNx作為側(cè)壁絕緣覆糟，并向下安裝在復合金剛石底座上瞒大。為了進行測試，所有的臺面和激光設備都安裝在AlN上的直接結(jié)合銅襯底上搪桂。電致發(fā)光(EL)光譜在不同溫度和脈沖電流(80kHz重復頻率;脈沖寬度100-500ns)透敌，使用傅里葉變換紅外(FTI ...
本研究所采用分子束外延法在InP襯底上生長了所研究的激光器√咝担基本結(jié)構(gòu)是先前發(fā)表的高速1.55um VCSEL結(jié)構(gòu)酗电，單片集成到一維陣列結(jié)構(gòu)中，光刻定義的間距為250um内列。對于高帶寬的電信應用撵术，保持較低的寄生電容是必不可少的。這導致如圖1所示的結(jié)構(gòu)话瞧，具有10um厚的低介電常數(shù)鈍化苯并環(huán)丁烯嫩与，市售名稱為Cyclotene 3022-57。該裝置本身只有30um寬交排。芯片的p側(cè)觸點可以在設備的頂部和底部進行訪問划滋，以實現(xiàn)各種安裝方式。在制造過程中埃篓，去除InP襯底处坪，并集成電鍍金散熱器。頂部和底部鏡面分別由33.5對InGaAlAs-InAlAs和3.5對附加Au涂層的CaF2-ZnS組成架专。有源區(qū)包括七個由拉 ...
同窘，使用固體源分子束外延（MBE）或氣源MBE生長的波長為9.1和4-6 um的QC激光器已經(jīng)證明了室溫連續(xù)波（CW）操作，這是緊湊型非低溫激光源的重要里程碑部脚。金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）zui近引起了人們的研究興趣想邦，因為它是工業(yè)界第1選擇的技術，并且在QC激光器的商業(yè)化方面有前景委刘。據(jù)報道丧没，MOCVD是一種高性能的QC激光生長技術服傍，首先采用低閾值脈沖操作，zui近骂铁，MOCVD生長的7.2 m QC激光器和MOCVD生長的5.1 m應變QC激光器使用埋藏異質(zhì)結(jié)構(gòu)設計進行室溫連續(xù)操作吹零。在這封信中，我們報告了一個mocvd生長的室溫連續(xù)波QC激光器異質(zhì)結(jié)構(gòu)拉庵。該激光器被加工成雙通道脊狀波導灿椅，頂部鍍 ...
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