纖損耗曲線圖散射損耗：指光信號在光纖中傳輸時，由于材料結(jié)構(gòu)不均勻或缺陷的存在而導(dǎo)致的部分能量被散射出芯部或改變方向的現(xiàn)象吐限。散射損耗與光信號的波長有關(guān)鲜侥，一般隨著波長的增加而減小。彎曲損耗：指光信號在光纖中傳輸時诸典，由于光纖本身或外界力作用而導(dǎo)致的部分能量從芯部漏出或反射回芯部的現(xiàn)象描函。彎曲損耗與光信號的波長有關(guān)，一般隨著波長的增加而增大。耦合損耗：指光信號在從一個介質(zhì)轉(zhuǎn)移到另一個介質(zhì)時舀寓，由于兩個介質(zhì)之間存在折射率胆数、形狀、位置等差異而導(dǎo)致的部分能量被反射或透射出去的現(xiàn)象互墓。耦合損耗與兩個介質(zhì)之間的匹配程度有關(guān)必尼，一般隨著匹配程度的提高而減小。光纖損耗的主要影響因素有以下幾個方面：光纖材料：光纖材料的選擇和 ...
體中照射時篡撵，散射光中的波長略有不同判莉。使用這種現(xiàn)象分析拉曼光譜可以獲得有關(guān)材料結(jié)構(gòu)的信息。在 CVD 腔室中安裝 In-situ 拉曼育谬，就可以在形成薄膜的腔室中實時分析薄膜材料的濃度券盅、晶體結(jié)構(gòu)、結(jié)晶性等性能斑司。此外渗饮，還可以檢驗化學(xué)沉積過程中所需的化合物氣體但汞、反應(yīng)氣體宿刮、薄膜生長溫度、生長時間等工藝條件私蕾，以找到一個較佳的工藝方案僵缺。研究組還開發(fā)了通過分析半導(dǎo)體薄膜物性來推斷遺傳率的分析技術(shù)。介電率是指在電場中產(chǎn)生電極化的程度踩叭。例如SiO2是一種傳統(tǒng)的層間絕緣材料磕潮，但由于介電率高，在實現(xiàn)高密度和高速化方面存在問題容贝，就可以通過沉積具有低電離電特性的電介質(zhì)來補充自脯。再通過磷酸光光譜法確定其沉積過程和處理條件的物 ...
，應(yīng)通過光的散射特性找到確定成熟度的進一步措施斤富「喑保基于這些特性，可以獲得有關(guān)細(xì)胞結(jié)構(gòu)的知識满力，這反過來又是保質(zhì)期的影響因素焕参。德國博登湖水果生產(chǎn)發(fā)展中心（KOB，Kompetenzzentrum Obstbau-Bodensee）將使用光譜儀測量 Elstar（伊思達）油额、Gala（嘎啦）和 Jonagold （喬納金）品種的蘋果叠纷。圖2.快速無損檢測方法獲取蘋果zui佳采摘時間(初代原型機)在Streif 指數(shù)中，可溶性干物質(zhì)（糖）（以 °Brix 為單位）潦嘶、果肉的硬度（以 kg/cm2 為單位）以及淀粉降解程度均采用 1 至 10 的評分標(biāo)準(zhǔn)來確定涩嚣。根據(jù)計算出的指數(shù)（硬度/（糖度 x 強度）），指定 ...
品襯底的背景散射光。在針孔之后航厚，用一個偏振器來分析探測光束的克爾旋轉(zhuǎn)校摩，該偏振器相對于入射光束的交叉偏振方向的角度為幾度(交叉偏振器技術(shù))然后用光電倍增管和鎖定檢測方案進行檢測。垂直于樣品平面施加zui大振幅為±4kOe的可變靜態(tài)磁場H阶淘。樣品可以用XY壓電掃描臺在±40 um的距離上進行掃描衙吩，精度為2 nm。CoPt3光盤是由15 nm的CoxPt1?x (x=0.25)合金薄膜通過分子束外延生長在沉積在500 um取向藍寶石(0001)襯底上的12 nm Pt緩沖層上溪窒，通過電子光刻制成的圓盤的直徑為0.2 ~ 1m坤塞，圓盤之間的距離為0.5 ~ 2um。圖2圖2(a)表示時間的變化泵浦激勵密度為 ...
下方的特征會散射光線并導(dǎo)致圖像質(zhì)量下降澈蚌。載玻片的清潔度是影響成像的重要因素摹芙，在暗場照明中，由于細(xì)微碎屑均會被照亮宛瞄，并且讓你無法看清想要觀察的部分浮禾，因此其重要性更甚。暗場顯微鏡與高光譜成像相結(jié)合份汗，為研究組織盈电、活細(xì)胞或溶液中的納米材料提供了一種有效的方法。來自等離子體或其他納米結(jié)構(gòu)的散射光提供了有關(guān)其組成杯活，大小和分布的有用信息匆帚。Photon等為高光譜暗場成像提供了兩種不同的平臺：可調(diào)諧激光源（TLS）允許在激發(fā)中濾波和IMA，一個提供發(fā)射濾波的平臺旁钧。TLS由兩個模塊組成：超連續(xù)源（寬帶源）和基于光子等體積布拉格光柵（VBG）技術(shù)的激光線可調(diào)諧濾波器（LLTF-帶通濾波器）吸重。IMA由高光譜成像濾光片 ...
樣重要。光的散射特性和物鏡的偏振質(zhì)量會影響整體對比度歪今，特別是磁光成像中的信噪比嚎幸。在高磁場的作用下，物鏡會產(chǎn)生不需要的法拉第旋轉(zhuǎn)寄猩，不僅會導(dǎo)致額外的強度變化嫉晶，還會導(dǎo)致信噪比的降低。通過重新調(diào)整分析儀或使用先jin的成像方案焦影，可以分別補償和減少這些影響车遂。此外，在磁光成像應(yīng)用中斯辰，使用特殊的低磁導(dǎo)物鏡是有利的舶担，可以避免在(高)磁場應(yīng)用期間作用在物鏡上的磁力產(chǎn)生的副作用，這可能導(dǎo)致不需要的人工制品和降低圖像質(zhì)量彬呻。這種效應(yīng)和機械漂移可以通過使用壓電定位系統(tǒng)以納米分辨率調(diào)節(jié)樣品位置來補償衣陶。如果您對磁學(xué)測量有興趣柄瑰，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.wjjzl.com/three-l ...
如共振x射線散射、x射線法拉第旋轉(zhuǎn)剪况、x射線橫向MOKE和x射線縱向MOKE中的MO現(xiàn)象教沾。一種新發(fā)現(xiàn)的現(xiàn)象是，在價帶能量體系中沒有對應(yīng)的MO效應(yīng)译断，它可以用圓偏振或線偏振入射光來觀察授翻。除了觀察到新的效應(yīng)外，求和規(guī)則的理論進展也刺激了x射線磁光學(xué)的發(fā)展孙咪。特別是堪唐，x射線磁性圓二色性(XMCD)的理論推導(dǎo)和規(guī)則被證明在原子尺度上檢查固體的磁性時非常有用。這些求和規(guī)則將左圓偏振光和右圓偏振光的x射線吸收光譜與材料中特定元素的自旋和軌道矩聯(lián)系起來翎蹈。因此淮菠，可以獲得元素的特定信息，這是超出價帶MO光譜的巨大優(yōu)勢荤堪。盡管在推導(dǎo)求和規(guī)則時涉及了大量的近似合陵，但它們在實踐中是令人信服的。獲得自旋或軌道矩的精度約為10%至 ...
間濾波排除未散射的光澄阳，從而提供樣品的散射光圖像拥知。在暗場（DF）的照明下，平坦的表面呈現(xiàn)暗色寇荧，而裂縫举庶、孔隙和蝕刻邊界等特征則會增強执隧。因此暗場照明可以用于檢測不透明揩抡、未染色材料（如半導(dǎo)體晶圓)中的缺陷。由于照明必須經(jīng)過空間濾波镀琉，因此需要比透射光學(xué)顯微鏡所使用的光源輸出強度更高的光源峦嗤。常用產(chǎn)品型號CELESTA、ZIVA屋摔、SOLA烁设、AURA、SPECTRA钓试、SPECTRA X装黑、MIRA、RETRA弓熏、PEKA恋谭、LIDA如果您對Lumencor光源有興趣，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.wjjzl.com/three-level-330.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡 ...
他納米結(jié)構(gòu)的散射光中獲得的信息挽鞠，有助于我們了解它們的成分疚颊、尺寸和分布情況狈孔。Photon etc.公司提供兩種不同的高光譜暗場成像平臺：可調(diào)諧激光源（TLS）和IMA，前者允許在激發(fā)下進行濾波材义，后者提供發(fā)射濾波TLS由兩個模塊組成：超連續(xù)譜源（寬帶源）和基于Photon等的體積布拉格光柵（VBG）技術(shù)的激光線可調(diào)諧濾波器（LLTF-帶通濾波器）均抽。IMA由同樣基于VBG的高光譜成像濾光片（超立方體）組成。當(dāng)與配備暗場聚光鏡的研究級顯微鏡結(jié)合使用時其掂，TLS和超立方體可以將該顯微鏡轉(zhuǎn)換為高光譜暗場設(shè)置油挥。這些系統(tǒng)可在可見光（400-1000nm）、近紅外（900-1620nm）或兩者（400-1620n ...
向檢測攝像機散射款熬，這些光通常被特定的濾光片阻擋和丟棄喘漏。然而，這種散射光可以攜帶有關(guān)樣品結(jié)構(gòu)和組成的有價值的信息华烟。當(dāng)散射是非彈性的翩迈，例如拉曼散射時，得到的光譜可以提供三維的樣品化學(xué)成分信息盔夜。另一方面负饲，當(dāng)散射是彈性時，它揭示了樣品在不同空間尺度上的結(jié)構(gòu)信息:遠小于(瑞利散射)喂链，與(米氏散射)相當(dāng)返十，甚至遠大于(幾何散射)光的波長。這是由于方法協(xié)議的變化椭微。12個折射率中的2個洞坑，即光散射的來源，是局部分子密度的度量蝇率，因此也是生物樣品結(jié)構(gòu)的度量迟杂。除了光學(xué)相干斷層掃描(OCT)技術(shù)外，樣品的彈性散射很少用作生物成像的對比源本慕。OCT依靠樣品的紅外光后向散射產(chǎn)生組織的橫截面圖像排拷。在分辨率和穿透深度方面，OCT介 ...
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