雙折射測量技術(shù)介紹1.理論基礎(chǔ)（1）偏振光盡管光具有波動性和粒子性坪仇，當處理偏振光時只考慮粒子性。光可以看作是橫向電磁波垃你，因此光由電場振動和磁場振動組成椅文。但是，一般來說只考慮電場振動惜颇。我們可以把它分解成相互垂直方向上的兩個振動來處理電場振動皆刺。如下圖所示，1.1偏振光的分解起偏器是由和光波長相比足夠小的光柵制成凌摄，或者由一特定偏振方向的光吸收材料組成羡蛾，如果在光路中安裝起偏器，光線是否能透過起偏器就取決于光的振動方向锨亏。也就是說痴怨，光透過起偏器只有一個振動方向。這里器予，因為振動方向是直線的浪藻，所以稱為線性起偏器，振動方向的平面稱為偏振面乾翔。一般爱葵，用p偏振光和s偏振光來表達偏振態(tài)。當光入射于介質(zhì)時反浓，入射光方向與法 ...
的光學常數(shù)萌丈、折射率等參數(shù)的信息，并進一步推斷材料的結(jié)構(gòu)和性質(zhì)勾习。例如浓瞪，通過不同偏振狀態(tài)下的光強變化，可以研究材料的各向異性和光學吸收行為巧婶。光偏振在MOKE顯微鏡中起到了重要的作用，在進行磁光克爾顯微鏡測量時涂乌，我們得充分考慮光偏振的影響艺栈，并合理利用光偏振來優(yōu)化實驗條件。如果您對磁學測量相關(guān)產(chǎn)品有興趣湾盒，請訪問上海昊量光電的官方網(wǎng)頁：http://www.wjjzl.com/three-level-150.html更多詳情請聯(lián)系昊量光電/歡迎直接聯(lián)系昊量光電關(guān)于昊量光電：上海昊量光電設(shè)備有限公司是光電產(chǎn)品專業(yè)代理商湿右，產(chǎn)品包括各類激光器、光電調(diào)制器罚勾、光學測量設(shè)備毅人、光學元件等吭狡，涉及應用涵蓋了材 ...
線性和非線性折射率(n0= 2.0 ~ 3.5， n2= 2 ′10 -18~ 2 ′10 -17m2 /W)丈莺、超快的非線性響應(響應時間< 100 fs)[1]划煮，且玻璃成分和性能連續(xù)可調(diào)，在中長波紅外波段具有良好的透過率和較高的非線性缔俄。因此被看作是制備中紅外光學器件和非線性光學器件的zui佳候選材料之一弛秋，在紅外傳輸、非線性光學俐载、紅外激光蟹略、半導體等領(lǐng)域都受到了廣泛的關(guān)注和深入地研究。硫系玻璃為主導的硫族元素玻璃引起的研究熱潮遏佣，不僅促進了紅外技術(shù)的進步挖炬，也實現(xiàn)了硫系玻璃的商業(yè)化。從而衍生出許多種類的硫系玻璃光纖及光纖器件状婶。(1) 硫系玻璃光子晶體光纖硫系玻璃光子晶體光纖又稱硫系玻璃微結(jié)構(gòu)光 ...
介質(zhì)之間存在折射率意敛、形狀、位置等差異而導致的部分能量被反射或透射出去的現(xiàn)象太抓。耦合損耗與兩個介質(zhì)之間的匹配程度有關(guān)空闲，一般隨著匹配程度的提高而減小。光纖損耗的主要影響因素有以下幾個方面：光纖材料：光纖材料的選擇和制造工藝會影響光纖的吸收損耗和散射損耗走敌。一般來說碴倾，玻璃光纖比塑料光纖具有更低的吸收損耗和散射損耗，但也更容易受到彎曲和斷裂的影響掉丽。因此跌榔，需要根據(jù)不同的應用場景和要求來選擇合適的光纖材料。光信號波長：光信號波長會影響光纖的吸收損耗捶障、散射損耗和彎曲損耗僧须。一般來說，較短的波長會導致較大的吸收損耗和散射損耗项炼，而較長的波長會導致較大的彎曲損耗担平。因此，需要根據(jù)不同的光纖類型和特性來選擇合適的光信號波長 ...
樣品的厚度和折射率的分布情況锭部，橫向分辨率可 以達到10μm暂论。該系統(tǒng)采用彩色CCD攝像機，將來自樣品表面的反射光的每個偏振轉(zhuǎn)換為強度分布拌禾，該強度分布是膜厚度和折射率的函數(shù)取胎；并且將強度 分布顯示為顏色分布，當樣品的折射率均勻時，樣品的厚度變化就可以快速表現(xiàn)為顏色的差異闻蛀。該系統(tǒng)雖然利用不同濾光片產(chǎn)生三種波長的單色光匪傍，可以進行三波長測量，但是無法得到樣品的寬光譜信息觉痛。2004 年役衡，法國的 Boher 等設(shè)計出一種光譜橢偏成像系統(tǒng)，采用白光源和四個濾光片分別得到不同波長的單色光波秧饮，橫向空間分辨率也已經(jīng)優(yōu)于10μm映挂。德國的Nanofilm公司研制了一種通過更換濾光片來獲取多個波長下樣品參數(shù)的光譜橢偏成像系 ...
常用的液體有折射率為1.5左右的香柏油和某些更高折射率的液體，后者可使數(shù)值孔徑達到1.5盗尸。由于數(shù)值孔徑只能在1左右變動柑船，光學顯微鏡的極限分辨距與所用色光的波長同一數(shù)量級。浸液物鏡需要把浸液作為物方介質(zhì)來專門設(shè)計泼各。為充分利用物鏡的分辨率鞍时，使已被物鏡所分辨的物體細節(jié)能被眼睛看清，顯微鏡必須有恰當?shù)姆糯舐士垓撸员惆鸭毠?jié)放大到足夠使人眼能分辨的程度逆巍。分別取2’和4’為人眼分辨角的下限和上限，則人眼在明視距離處能分辨開二點的間距即為被顯微鏡放大以后的像莽使，有對于目視光學儀器锐极，主色光的波長為0.00055，則500A< M <1000A滿足此公式的放大率稱為顯微鏡的有效放大率芳肌×樵伲可見，該有效放大率被 ...
的通信波導的折射率對比度和色散提供了有效方法亿笤，并且能夠提供有效的光譜分辨率翎迁，從而獲得波導的色散指數(shù)。除此之外净薛，橢偏成像技術(shù)可以用于對導電聚合物膜層的研究汪榔，通過橢偏成像可以獲得聚合物層的空間分布信息和不同厚度層的顯著形態(tài)差異。 此外肃拜，橢偏成像還應用在原位測試方面痴腌。例如對界面氧化層變化的分析可以顯示氧化層厚度變化，精確到納米級 燃领。對于水媒質(zhì)中油滴到達石英固體表面上時形貌的變化衷掷，橢偏成像能夠準確地測定在液滴和界面之間發(fā)生薄膜排水時液滴輪廓的變化。該技術(shù)對厚膜和薄膜的測量都很敏感柿菩，無需掃描表面，可實時生成薄膜輪廓雨涛。到目前為止枢舶，橢偏成像技術(shù)在納米材料檢測方面已經(jīng)取得長足的進步懦胞， 橢偏光譜成像已經(jīng)可以對復 ...
退偏。線性雙折射是指線偏光的兩個正交分量的折射率差凉泄，圓偏光雙折射是指左旋和右旋偏振光之間的折射率的差值躏尉。衰減則定義為偏振光zui大zui小透過率差值的比值『笾冢總之胀糜，有6個參數(shù)來表征非退偏樣品的延遲和衰減特性，線性位相延遲器的大小蒂誉，線性位相延遲器和圓偏光位相延遲器的快軸角度,線性衰減器的大小,線性位相衰減器和圓偏光衰減器的角度教藻。（4）PEM光彈調(diào)制器是一種基于光彈效應的共振偏振調(diào)制器。光彈效應是由機械應力導致的透明介質(zhì)固體中的線性雙折射右锨。光彈調(diào)制器發(fā)明于1960年括堤。其中設(shè)計zui成功的光彈調(diào)制器包括了一個矩形的熔石英和一個有單晶石英制成的壓電傳感器。PEM是由各向同性的光學材料制成的绍移，如石英等哩罪。P ...
體畔乙，引起材料折射率的變化。這種折射率的變化使穿過材料的光發(fā)生偏轉(zhuǎn)。通過應用時變聲波斗搞，偏轉(zhuǎn)角度可以迅速改變，允許快速和精確的掃描激光束到推。AOD可用于掃描x和y軸的激光束企孩，包括任意感興趣的路徑，可以提供樣品的高速涣楷，高分辨率的掃描分唾。這可以顯著提高共聚焦和多光子顯微鏡的成像深度和速度，使實時捕獲代謝過程和其他動態(tài)過程成為可能狮斗。此外绽乔，AOD可用于調(diào)制激光束的強度，從而可以在光柵掃描期間執(zhí)行消光碳褒，這有助于進一步提高分辨率折砸。在聲光偏轉(zhuǎn)器中，壓電換能器在材料中產(chǎn)生布拉格光柵沙峻。光闌只允許經(jīng)過衍射的光束通過睦授。由G&H提供。綜上所述摔寨，聲光和其他有源光子元件集成到顯微鏡中的zui新發(fā)展開始解決共聚焦和多光子顯 ...
線經(jīng)過衍射去枷、折射并反射到顯微鏡物鏡內(nèi)，形成疊加在深色背景上的明亮樣品圖像。這種深色背景能夠提供較高的對比度删顶，并且輕松讓背景效果不佳的標本更加突出竖螃。下面是一些圖片示例。暗場顯微鏡x1000所見紅細胞暗場顯微鏡圖像——顯微水螨幼蟲的暗場圖像暗場顯微鏡圖像——有絲分裂蔥根尖暗場照明需要阻擋通常穿過樣品和環(huán)繞樣品周圍的大部分光線逗余，僅允許傾斜光線照射在樣品上特咆。暗場聚光鏡的頂部透鏡為球形凹面，其允許從頂部透鏡表面發(fā)射的光線形成一個倒置空心圓錐體录粱，并將焦點集中在樣品平面上腻格。在沒有樣品且聚光鏡數(shù)值孔徑大于物鏡的地方，傾斜光線會相互交叉并錯開物鏡啥繁，從而讓這些區(qū)域變暗菜职。將標本（尤其是未染色且不吸收光線的標本）放在 ...
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