光刻膠測量概述

正文

光刻膠測量概述

MProbe? Vis MSP用于小點(diǎn)測量禽车。

在本文中寇漫，我們將討論P(yáng)R的幾種不同應(yīng)用:

1.玻璃基板上的薄PR(主CD/DVD應(yīng)用)

2.藍(lán)寶石晶圓上薄PMMA

3.硅上PR(微斑)

4.硅片上PR(毯式硅片)

5.銅板PR(印制板)

一磷斧、玻璃基板上的薄PR

此應(yīng)用程序用于主CD/DVD和其他重新編碼應(yīng)用程序儿子。用MicropositS1800系列(Shipley)自旋涂覆玻璃盤袜茧。PR的柯西系數(shù)由廠家提供畏浆。而PR在隨厚度直接測量的500nm~600nm范圍內(nèi)吸收較小虏杰。PR的光學(xué)常數(shù)采用CauchyK模型表示怎炊，其中僅測量吸收(k)部分右莱，而n系數(shù)是固定的救拉。

圖1 PR的光學(xué)常數(shù)彻采，k為實(shí)測腐缤，n由廠家提供。

圖2 PR測量結(jié)果肛响。測量參數(shù)為厚度(118nm)和吸收(見圖1)岭粤。

二、硅晶上的PMMA

將PMMA950(MicroChem)自旋涂覆在硅片上特笋。PMMA材料的光學(xué)色散(柯西系數(shù))由制造商提供剃浇。用MProbeVis測量涂層的厚度。

圖3 PMMA的測量:測量數(shù)據(jù)與模型猎物。厚度:143.2nm

三虎囚、硅上光刻膠

利用MProbeMSPVis系統(tǒng)(使用20μm的測點(diǎn))測量PR。PR的折射率尚不清楚蔫磨。PR的光學(xué)常數(shù)用CauchyK近似表示----n和k隨厚度一起測量

圖4 硅片上的光刻膠點(diǎn)(15×15um)

圖5測量結(jié)果:模型與實(shí)測數(shù)據(jù)的擬合淘讥。厚度:3341nm

圖6 測量光刻膠的n和k

四、藍(lán)寶石晶圓上的光刻膠堤如。

為了準(zhǔn)確地確定PR的R.I.離散度蒲列，我們首先使用直接曲線擬合并測量以下參數(shù):

1.PR的厚度

2.PR的R.I.色散窒朋。直接測量的參數(shù)是柯西系數(shù)，因?yàn)樯⑹怯每挛鹘票硎镜摹?/p>

3.表面粗糙度校正和比例尺蝗岖。這些參數(shù)校正了到樣品的距離和殘余的背面反射/散射的變化

一旦膜疊確定-我們可以使用FFT進(jìn)行測量侥猩，使其在生產(chǎn)環(huán)境中非常容易和可靠，

圖7 藍(lán)寶石上的PR抵赢。測量參數(shù):厚度拭宁，R.I.的PR(柯西系數(shù))，表面粗糙度和尺度瓣俯。

圖8 調(diào)整粗糙度和比例尺參數(shù)

圖9光刻膠R.I.色散(測量柯西系數(shù))

圖10 藍(lán)寶石上的光刻膠。厚度是用曲線擬合的FFT(膜疊)確定的兵怯，圖7使用)

五彩匕、銅上的光刻膠(印制板)

光刻膠沉積在印制板(銅)上，使用MProbeVisHR系統(tǒng)(700-1000nm)進(jìn)行測量媒区。PR的折射率n≈1.6驼仪。

銅表面有致密的黑色圖案，并被打結(jié)袜漩，這產(chǎn)生了相當(dāng)數(shù)量的散射绪爸。因此，我們使用了厚膜算法(FFT)來確定厚度宙攻。

圖11 測量的反射光譜(放大部分如圖所示)奠货。反射率約0.3%的振蕩/條紋表明存在PR。由于散射座掘，振幅很小递惋。

圖12 印制板上PR的測量。峰表示PR的厚度(45.54um)溢陪，盡管光譜中的特征很弱萍虽，但峰十分清晰。

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