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高光譜應(yīng)用案例-高光譜相機(jī)在薄膜厚度監(jiān)測(cè)上的應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間:2020-12-24 14:07:36 瀏覽量:4572 作者:Lucian

摘要

在薄膜行業(yè)和涂層行業(yè)中晤斩,厚度是一個(gè)非常重要的質(zhì)量參數(shù)焕檬;厚度和均勻性嚴(yán)重影響著薄膜的性能,所以必須非常精準(zhǔn)的測(cè)量薄膜的厚

度澳泵。而高光譜相機(jī)則可以很好的適用于該項(xiàng)應(yīng)用揩页。

正文


在薄膜行業(yè)和涂層行業(yè)中烹俗,厚度是一個(gè)非常重要的質(zhì)量參數(shù)爆侣;厚度和均勻性嚴(yán)重影響著薄膜的性能,所以必須非常精準(zhǔn)的測(cè)量薄膜的厚

度幢妄。目前兔仰,X射線技術(shù)和光譜學(xué)技術(shù)在薄膜厚度測(cè)量方面得到了廣泛的應(yīng)用,不管是在臺(tái)式監(jiān)測(cè)系統(tǒng)中還是在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)中乎赴。



然而忍法,目前使用的一般是單點(diǎn)狀的探測(cè)器,而在線監(jiān)測(cè)系統(tǒng)一般都是把探測(cè)器安裝在一個(gè)橫向掃描的平臺(tái)上榕吼,得到的是一個(gè)之字形的檢

測(cè)點(diǎn)圖形而不是整個(gè)薄膜饿序,因此只能監(jiān)測(cè)部分樣品的厚度。


那么羹蚣,一個(gè)行掃描推掃式)高光譜相機(jī)就可以克服這個(gè)限制原探,它可以監(jiān)測(cè)整個(gè)的薄膜或者是涂層區(qū)域。在每條線掃描數(shù)據(jù)中顽素,光譜數(shù)

據(jù)能覆蓋薄膜的整個(gè)寬度咽弦,并且有很高的空間分辨率


為了驗(yàn)證高光譜成像技術(shù)在這個(gè)方面的應(yīng)用胁出,Specim公司使用高光譜相機(jī)檢測(cè)了4種高分子材料薄膜樣品的厚度型型,使用的是型號(hào)為

Specim FX17(波長(zhǎng)935-1700nm)高光譜相機(jī)全蝶。薄膜樣品的標(biāo)稱厚度為17闹蒜,20,20和23um. 使用鏡面幾何的方法抑淫,并且仔細(xì)檢查干

圖形嫂用。通過解析圖片上光譜位置及距離,就可以得到厚度值。

光譜干涉圖甘畅,通過鏡面反射的方式測(cè)量得到的埂蕊,可以轉(zhuǎn)化為厚度圖。

光譜干涉圖通過matlab軟件轉(zhuǎn)化成厚度圖疏唾。使用SpecimFX17高光譜相機(jī)測(cè)得的平均厚度值為18.4um蓄氧,20.05um,21.7um槐脏,和

23.9um. 標(biāo)準(zhǔn)偏差分別為0.12喉童,0.076,0.34顿天,和0.183um堂氯。當(dāng)測(cè)試薄膜的時(shí)候,并沒有拉伸薄膜牌废,這也剛好能解釋為什么測(cè)試值輕微

的超過標(biāo)稱值了咽白。另外鸟缕,瑕疵點(diǎn)也被檢測(cè)到了晶框。 在薄膜1中排抬,我們檢測(cè)到了2個(gè)比較薄的片區(qū), 這也許是外部壓力造成的授段。

高光譜成像相較于光譜學(xué)蹲蒲,能顯著提高薄膜效率和涂層質(zhì)量控制系統(tǒng)侵贵。因?yàn)楦吖庾V相機(jī)(例如Specim FX17)每秒鐘能獲取上千條線

掃描數(shù)據(jù)届搁。它可以提供100%在線薄膜監(jiān)測(cè),可以提高產(chǎn)品質(zhì)量一致性并減少浪費(fèi)模燥。


相較于目前的基于一個(gè)光譜數(shù)據(jù)點(diǎn)的XY掃描解決方案咖祭,它同樣可以顯著的提高臺(tái)式監(jiān)測(cè)系統(tǒng)的監(jiān)測(cè)速度。同時(shí)高光譜相機(jī)也可以減少X

射線傳感器帶來的輻射危害蔫骂,因?yàn)樗鼉H僅只需要無害的光線。


理論上講并考慮到一個(gè)安全限度辽旋,F(xiàn)X10能測(cè)量厚度梯度從1.5um到30um浩嫌,而FX17適用于厚度從4到90um。


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