薄膜，對許多以技術(shù)工藝為基礎(chǔ)的行業(yè)是較為重要的材泄。為了實現(xiàn)設(shè)計功能沮焕，薄膜必須有合適的厚度拉宗，成分，粗糙度旦事，和特定應(yīng)用的其它重要特性魁巩。這些特性往往需要在薄膜的制造過程之中或之后測量。光學(xué)和探針測量是薄膜測量的兩種主要類型姐浮。
膜厚測量原理（一）-薄膜
沉積在另一種物質(zhì)表面的非常薄的物質(zhì)層肾扰，即薄膜畴嘶，對許多以技術(shù)工藝為基礎(chǔ)的行業(yè)是較為重要的。薄膜被廣泛地用于導(dǎo)體之間的鈍化絕緣層集晚、防擴散層、以及防劃痕和磨損的硬涂層偷拔。集成電路就主要由一系列薄膜的沉積和選擇性的去除組成蒋院。
常見應(yīng)用中的薄膜厚度從幾個原子（<1納米或 0.0001微米）到100微米 （人頭發(fā)的寬度）莲绰。薄膜可以通過許多不同的過程形成悦污，包括包括旋轉(zhuǎn)涂膜、真空蒸鍍钉蒲、濺射切端、氣相沉積和浸涂顷啼。
為了實現(xiàn)設(shè)計功能踏枣，薄膜必須有合適的厚度，成分钙蒙，粗糙度茵瀑，和特定應(yīng)用的其它重要特性。這些特性往往需要在薄膜的制造過程之中或之后測量躬厌。光學(xué)和探針測量是薄膜測量的兩種主要類型马昨。
探針測量是通過監(jiān)測精密探針劃過薄膜表面的偏移測量薄膜厚度和粗糙度扛施。探針測量受限于速度和精確度鸿捧，而且測量時要求薄膜和耐底之問有一個“臺階”。探針測量常常是不透明薄膜疙渣，如金屬薄膜的較佳測量方法匙奴。
光學(xué)測量是通過測量薄膜與光相互作用來決定薄膜特性。光學(xué)方法可以測量薄膜的厚度妄荔、粗糙度及光學(xué)常數(shù)泼菌。光學(xué)常數(shù)用來描述光通過某種物質(zhì)時的傳播和反射啦租。光學(xué)常數(shù)可以和材料的其他參數(shù)，如成分和帶隙聯(lián)系起來篷角。
由于光學(xué)測量方法準(zhǔn)確，無破壞，只需很少或無需專門樣品伴澄，光學(xué)測量法常常是薄膜測量的較佳方法赋除。常見的兩種光學(xué)測量法是光譜反射法和橢偏法。光譜反射法測量一定波長內(nèi)光線查直人射到樣品表面時非凌，薄膜衣面反射回來的光举农。橢偏法則測量非垂直入射光的兩種不網(wǎng)的偏振〕ㄎ耍總的來說颁糟，光譜反射法比橢偏法簡單、經(jīng)濟得多喉悴，但是局限于測量比較不復(fù)雜的結(jié)構(gòu)背镇。
光學(xué)常數(shù) (n和k)描述光如何通過薄膜傳播粹懒。在某個時間光穿過一種物質(zhì)的電磁場可以簡單表示為：
其中x:距離，λ：光波長勺像，n和k：薄膜相應(yīng)的折射率和消光系數(shù)障贸。折射率是光在物質(zhì)和真空中傳播速度的比值。消光系數(shù)是測量光在物質(zhì)中被吸收了多少吟宦。
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