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膜厚測量原理(六)-臺式薄膜測量系統(tǒng)的優(yōu)勢

發(fā)布時間:2023-03-28 12:01:55 瀏覽量:2148 作者:Alex

正文


膜厚測量原理(六)-臺式薄膜測量系統(tǒng)的優(yōu)勢


MPROBE20

數(shù)秒內(nèi)的薄膜測量

臺式MPROBE20可以快速宽档、簡便地測量厚度庵朝,光學(xué)常數(shù)(n和k)和透射率吗冤。這臺功能 齊全的儀器能測量1納米到1毫米厚的透光或半透光的薄膜。精度一般在幾個埃偿短。光斑大小可調(diào)節(jié)并且范圍很寬馋没。




超高的性價比 

Semiconsoft很高興能提供突破性的低價格昔逗,使原本又困難又昂資的薄膜測量變得很便宜很簡單。


附件

多種不同的平臺篷朵,晶圓平臺和特殊測量探頭可適合大部分樣品的尺寸勾怒。


在線測量 

針對制程應(yīng)用笔链,Semiconsoft的測量系統(tǒng)僅需要在光路上直視待測樣品,并提供與多種控割系統(tǒng)的接口腮猖。


把顯微鏡變成薄膜厚度測量工具 

用于圖形化表面和光斑小至10微米的薄膜厚度測量應(yīng)用鉴扫。

MPROBE20可以方便地與絕大多數(shù)顯微鏡相連。標(biāo)淮c型精接器可以和測量點的ccd相機相連澈缺。


厚度測繪系統(tǒng) 

將MPROBE20厚度測量功能和直觀操作作延伸為大面積樣品的自動測繪。

幾分鐘內(nèi)顯示樣品的均勻性姐赡。五不到數(shù)百個點 的掃描速度可達每秒1個點莱预。最大到12英寸晶圓的標(biāo)準(zhǔn)平臺。晶圓平臺可隨客戶需要自定项滑。


一般規(guī)格

VISVISHRVISNIRNIR&NIRHRUVVISRUVVISFUVVISNIR
測量厚度范圍10nm-75um1um-400um50nm-100um50nm-1800nm1nm-75um1nm-5um1um-150um
光源                                      鹵素?zé)?/mark>(氙燈                   鹵素?zé)簦療簦?氘燈
波長范圍400nm-1000nm700nm-110nm380nm-1700nm900nm-1700um

1500nm-1550nm

200nm-1000nm200nm-1000nm200nm-1700nm
準(zhǔn)確度(取較大者)<0.2%

或1 nm

<0.1%

或1 nm

                                                    <0.2%

                                                    或1 nm

精度(分辨率)

                                                           <0.01nm或

                                                           0.01%

<0.1nm或 0.1%
穩(wěn)定性                                                           <0.02nm或

                                                           0.03%

<0.2nm或者 0.3%

光斑大小

                                                             標(biāo)準(zhǔn)1mm,最小0.5mm
光源壽命                                                             最高可達10000小時壽命


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