相比傳統(tǒng)光譜橢偏儀仗考,Muller矩陣橢偏儀可以獲得更豐富的信息音同,提供更高的靈敏度并且可以改變方位角以實(shí)現(xiàn)錐型衍射,可以實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)幾何參數(shù)的大面積快速準(zhǔn)確測(cè)量秃嗜。
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橢偏成像技術(shù)(五)光譜橢偏成像的發(fā)展(第三部分)
下圖為使用日本東北大學(xué)的系統(tǒng)獲得的硅襯底上的二氧化硅納米薄膜的厚度分布。
硅襯底上的二氧化硅薄膜厚度分布
厚度刨面在1.10 mm×2.21 mm的面積上幾乎是平坦的锅锨,在水平和垂直方向上的空間分辨率分別為 1.58μm 和4 62μm叽赊。該系統(tǒng)與光譜橢偏之間的平均厚度差小于3nm,盡管包含大量的數(shù)據(jù)點(diǎn)必搞,測(cè)量結(jié)果與標(biāo)準(zhǔn)值的偏差小于2.5nm必指。
通過(guò)與磁光調(diào)制、時(shí)間相移和雙反射等技術(shù)的結(jié)合恕洲,光譜橢偏技術(shù)提高了測(cè)量速度和準(zhǔn)確性塔橡。通過(guò)與Muller矩陣的結(jié)合,光譜橢偏技術(shù)不再受光學(xué)分辨率極限的限制谱邪,提高了測(cè)量的準(zhǔn)確性,可以獲得更豐富的信息庶诡。
2019年華中科技大學(xué)發(fā)明了基于液晶調(diào)相的垂直物鏡式Muller矩陣成像橢偏儀惦银,該儀器所用系統(tǒng)改變了之前普通傾斜鏡面成像的結(jié)構(gòu),根本上避免了焦深小、視場(chǎng)窄的問(wèn)題扯俱,可實(shí)現(xiàn)高分辨率书蚪、寬視場(chǎng)測(cè)量,可用于對(duì)納米薄膜幾何參數(shù)的測(cè)量迅栅。
2018年韓國(guó)朝鮮大學(xué)提出用于表征多層膜結(jié)構(gòu)的大面積光譜成像橢偏儀殊校,利用寬帶光源和成像光譜儀,光譜范圍可以達(dá)到400-800nm读存。準(zhǔn)直光束通過(guò)擴(kuò)束器擴(kuò)展为流,直徑達(dá)到30mm,通過(guò)低放大率成像透鏡得到旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器旋轉(zhuǎn)引起的偏振變化的光譜空間強(qiáng)度圖像让簿,該圖像可以表征相對(duì)較大區(qū)域的薄膜厚度剖面敬察,橫向分辨率也已經(jīng)達(dá)到4μm。至此尔当,橢偏成像技術(shù)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)大視場(chǎng)莲祸、寬光譜成像椭迎,可以應(yīng)用在更多方面锐帜。
根據(jù)測(cè)量的要求,橢偏成像技術(shù)可以用作定性技術(shù)畜号、準(zhǔn)定量技術(shù)或完全定量技術(shù)缴阎。但是在進(jìn)行完全定量測(cè)量時(shí),需要更精確的校準(zhǔn)简软、校正和計(jì)算药蜻。2019年,中科院上海光學(xué)精密機(jī)械研究所針對(duì)Muller矩陣成像橢偏儀的系統(tǒng)誤差源提出了一種新的簡(jiǎn)化分析法替饿,分析了成像橢偏儀的系統(tǒng)誤差源和隨機(jī)誤差源對(duì)測(cè)量結(jié)果的影響贸典,適用于Muller矩陣成像橢偏儀的誤差評(píng)定视卢、誤差源指標(biāo)分解及元件誤差補(bǔ)償。
國(guó)外橢偏成像研究開(kāi)始比較早廊驼,以橢偏成像技術(shù)為基礎(chǔ)的科技研發(fā)較為迅速据过,科研人員所研制出的各種成像橢偏儀器也逐漸商品化。截至目前妒挎,橢偏成像技術(shù)已經(jīng)在各個(gè)應(yīng)用方面得到比較全面的發(fā)展绳锅。國(guó)內(nèi)橢偏成像技術(shù)雖然起步較晚,但經(jīng)過(guò)研究人員的不斷鉆研酝掩,發(fā)展較為迅速鳞芙,從開(kāi)始的基于消光式橢偏儀的橢偏成像測(cè)量技術(shù)發(fā)展到全Mueller矩陣型橢偏成像測(cè)量技術(shù),實(shí)現(xiàn)了大面積寬光譜測(cè)量 原朝,已基本走向了成熟驯嘱,不亞于國(guó)外橢偏成像技術(shù)。
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