橢偏成像技術(shù)zui早出現(xiàn)于20世紀(jì)80年代呆抑,由于集成電路的特征尺寸越來越小,為了實(shí)現(xiàn)對半導(dǎo)體集成電路表面的定量分析與測量汁展,人們首次將顯微成像掃描與橢偏測量技術(shù)相結(jié)合鹊碍。
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橢偏成像技術(shù)(一)-橢偏成像的發(fā)展
為了實(shí)現(xiàn)對半導(dǎo)體集成電路表面的定量分析與測量,人們將顯微成像掃描與橢偏測量技術(shù)相結(jié)合食绿,這種方法是將入射光束聚焦到一個微小的點(diǎn)上妹萨,然后前后掃描樣品,依次覆蓋整個表面炫欺。由該方法研發(fā)出的顯微成像掃描橢偏儀采用機(jī)械掃描,具有測量速度慢的問題熏兄,應(yīng)用范圍較小品洛。直到 1988 年,新西蘭維多利亞大學(xué)的 Beaglehole提出的橢偏成像技術(shù)擺脫了顯微掃描成像的局限摩桶,使用ccd相機(jī)采集橢偏圖像桥状,將成像技術(shù)與橢偏技術(shù)相結(jié)合,研發(fā)出成像橢偏儀硝清,該橢偏儀可以觀測油滴在云母基地上的擴(kuò)散過程辅斟,較大提高了測量效率。
20 世紀(jì) 90 年代芦拿,基于橢偏測量技術(shù)的橢偏光學(xué)顯微成像發(fā)展開來士飒。1996年,中科院靳剛教授與瑞典林雪平大學(xué)的Jansson和Arwin以起偏器-補(bǔ)償器-樣品-檢偏器(PCSA)橢偏儀為基礎(chǔ)蔗崎,采用準(zhǔn)直擴(kuò)展光束為入射光酵幕,CCD 相機(jī)作為探測器,如下圖所示缓苛,對硅基層透明薄膜進(jìn)行可視化芳撒,橫向分辨率達(dá)到5μm。該技術(shù)在由起偏器未桥、補(bǔ)償器笔刹、樣品和檢 偏器組成的消光式橢偏儀中使用光度式,在襯底裸露部分進(jìn)行消光調(diào)節(jié)冬耿,然后在保持補(bǔ)償器方位角舌菜、偏振器方位角不變的情況下使用光度式進(jìn)行操作,根據(jù)反射光的強(qiáng)度實(shí)現(xiàn)材料厚度的可視化亦镶。該技術(shù)對薄層沉積過程中厚度分布的在線動態(tài)可視化具有很大的應(yīng)用前景酷师。該橢偏成像技術(shù)使用的是單一波長入射樣品讶凉,結(jié)構(gòu)如下圖所示 。
具有擴(kuò)展光束山孔、固定偏振組件和 CCD 相機(jī)的成像橢偏儀結(jié)構(gòu)示意圖
該成像橢偏系統(tǒng)被應(yīng)用于研究多種蛋白分子在固相表面的吸附機(jī)理和多種抗原-抗體之間的相互作用等懂讯,并且成功地檢測了人體內(nèi)分泌激素等。
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