隨著應(yīng)用與需求的擴(kuò)大,橢偏術(shù)可以應(yīng)用到物理勾哩、化學(xué)抗蠢、材料學(xué)、微電子技術(shù)思劳、薄膜技術(shù)迅矛、冶金學(xué)、天文 學(xué)敢艰、生物和醫(yī)學(xué)等方面诬乞。
橢偏儀（九）-橢偏光譜技術(shù)的應(yīng)用
橢偏光儀用途是比較廣的，可用來(lái)測(cè)量各種透明或半透明膜層的厚度及折射率和 吸收系數(shù)钠导，檢驗(yàn)?zāi)拥木鶆蛐哉鸺担瑤椭b別膜層組分，測(cè)量物質(zhì)的折射率和消光系數(shù)牡属，研究各種表面層和表面過(guò)程票堵，諸如氧化、腐蝕逮栅、吸附悴势、潤(rùn)滑窗宇、催化等。因此特纤，橢偏光儀在許多工業(yè)部門和基本研究中都可應(yīng)用军俊。
（1） 固體薄膜光學(xué)性質(zhì)的測(cè)量 應(yīng)用橢偏術(shù)可對(duì)單層吸收膜、雙層膜及多層膜進(jìn)行測(cè)量,得到材料的光學(xué)常數(shù)折射率Ｎ和吸收系數(shù)Ｋ,進(jìn)而得到其介電常數(shù)捧存。近年來(lái)也實(shí)現(xiàn)了對(duì)離子注入損傷分布的測(cè)量粪躬、超晶格、粗糙表面昔穴、界面的測(cè)量镰官。
（2） 物理吸附和化學(xué)吸附 用橢偏術(shù)方法在現(xiàn)場(chǎng)且無(wú)損地研究過(guò)與氣態(tài)、液態(tài)周圍媒質(zhì)相接觸地表面上吸附分子或原子形態(tài)的問(wèn)題吗货。
（3） 界面與表面的應(yīng)用 橢偏廣泛用于研究處于各種不同環(huán)境中的材料的表面的氧化和粗糙程度,以及材料接觸界面的分析泳唠。例如金屬和半導(dǎo)體接觸,以及肖特基的研究。
（4） 電化學(xué) 離子吸附宙搬、陽(yáng)極氧化笨腥、鈍化、腐蝕及電拋光等電化學(xué)過(guò)程,可以現(xiàn)場(chǎng)深入地研究電極-電解液界面過(guò)程害淤。
（5） 微電子領(lǐng)域 在微電子領(lǐng)域中,研究薄膜生長(zhǎng)過(guò)程,薄膜厚度,半導(dǎo)體的表面狀況以及不同材料的界面情況,離子的注入損傷分布等扇雕；一些高技術(shù)材料的研究及其它新領(lǐng)域：高溫超導(dǎo)材料、低維材料窥摄、導(dǎo)電聚合物以及光電子學(xué)镶奉、聲光學(xué)和集成光學(xué)、激光技術(shù)等領(lǐng)域,橢偏術(shù)還用來(lái)研究固體的輻射損傷崭放。
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