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橢偏儀在位表征電化學(xué)沉積的系統(tǒng)搭建(五)-Pb和Cu2O薄膜的電化學(xué)沉積

發(fā)布時間:2023-12-27 11:20:31 瀏覽量:1749 作者:Alex

摘要

以電化學(xué)沉積Cu2O薄膜為例狐赡,從而在實驗室構(gòu)建橢偏儀在位監(jiān)控電化學(xué)沉積系統(tǒng)。主要研究包括: 在位監(jiān)控電解池的設(shè)計與制作疟丙。首先通過COMSOL擬合颖侄,確定電解池中電極位置對沉積過程的影響鸟雏。設(shè)計和制備半圓弧形電解池,以實現(xiàn)對垂直池體的入射與出射览祖,zui低限度減小了光在傳播過程中的損失孝鹊。另外為了進(jìn)一步減少溶液在光路中的占比以及其所導(dǎo)致的光的散射問題,從而設(shè)計出微腔電解池展蒂。探索溶液對橢偏儀測試的影響:研究不同溶液濃度醋酸鉛溶液(5又活,10,15锰悼,20mM)對橢偏儀測試的影響柳骄。

正文


橢偏儀在位表征電化學(xué)沉積的系統(tǒng)搭建(五)-Pb和Cu2O薄膜的電化學(xué)沉積


2.2 Pb和Cu2O薄膜的電化學(xué)沉積


實驗室前期系統(tǒng)研究了Pb的成核生長箕般,并用于鈣鈦礦太陽能電池的制備耐薯。前期的研究發(fā)現(xiàn)Pb在ITO基底上的生長過程屬于漸進(jìn)成核的島狀生長。


Cu2O為半導(dǎo)體材料隘世,其能隙與生長條件有關(guān)可柿,大約在1.9-2.2eV。它具有吸收系數(shù)高丙者、材料豐富复斥、無毒、制造成本低等優(yōu)點械媒,在太陽能轉(zhuǎn)換、電極材料纷捞、傳感器和催化等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前痢虹。如圖1-7所示,是簡單的Cu2O帶模型主儡,根據(jù)所涉及的價帶和導(dǎo)帶奖唯,可以區(qū)分四個激子序列,根據(jù)所涉及的波段糜值,可以分為黃丰捷、綠、藍(lán)和紫激子系列寂汇。在這個模型中病往,激子的波函數(shù)包括所謂的包絡(luò)函數(shù),它描述了電子和空穴的相對運動骄瓣,以及所涉及能帶的Bloch函數(shù)停巷。由于電子和空穴的自旋(例如,黃色激子系列是四倍簡并的)以及電子自旋與空穴之間交換相互作用的存在提升了簡并,并導(dǎo)致鄰位激子和對激子畔勤。除了簡單的能帶模型外蕾各,價帶的各向異性色散對黃系激子有顯著的影響。各向異性色散導(dǎo)致了電子與空穴和軌道的相對運動之間的耦合硼被。


圖1-7 Cu2O的能帶結(jié)構(gòu)


Cu2O根據(jù)其O空隙和Cu缺陷不同可分為n型或者P型半導(dǎo)體如圖1-8所示示损。在Cu2O中渗磅,銅空位出現(xiàn)淺的受主能級嚷硫,氧間位形成深能級缺陷,形成能分別為1.8eV始鱼、1.3eV仔掸。銅間位出現(xiàn)在深能級医清,形成能為2.5eV左右起暮。氧空位具有相對較低的形成能,但是它不穩(wěn)定会烙。通常情況下容易得到Cu空位P型Cu2O半導(dǎo)體负懦。


圖1-8(a)為銅多氧少(b)為銅少氧多情況下Cu2O本征缺陷的形成能


實驗室前期通過電化學(xué)沉積控制生長條件可得到n型的Cu2O半導(dǎo)體。如圖1-9所示柏腻,在特定的電壓纸厉、pH和溫度下才能實現(xiàn)Cu2O的電化學(xué)沉積。前期研究發(fā)現(xiàn)在不同電壓下制備的薄膜有Cu2O相五嫂、Cu-Cu2O相和Cu相等不同的相颗品。沉積電壓對Cu2O薄膜的形貌、光學(xué)性質(zhì)影響較大沃缘。隨著沉積電壓的變化,Cu2O薄膜可從片狀層疊的薄膜狀態(tài)變成顆粒聚集的薄膜狀態(tài)槐臀。另外Cu2O得到薄膜的能隙約為Eg=1.76eV锄蹂。此外,在不同溫度下都得到了n-Cu2O(111)相的薄膜水慨,且溫度不同也會帶來沉積的Cu2O薄膜形貌及光學(xué)性的不同得糜。因此Cu2O的生長過程較為復(fù)雜,生長條件會影響微觀結(jié)構(gòu)和成分比例變化讥巡。


圖1-9(a)和(b)顯示了Cu2O的電化學(xué)沉積與沉積電壓掀亩、溫度和溶液pH有關(guān)


在位橢偏儀法是利用橢偏儀測量技術(shù)結(jié)合設(shè)計的電化學(xué)電解池對電極表面產(chǎn)生的變化進(jìn)行監(jiān)測,得到生成物質(zhì)的光學(xué)常數(shù)欢顷、厚度等信息槽棍。目前在電化學(xué)薄膜生長、生物領(lǐng)域蛋白質(zhì)等大分子吸附方面的在位橢偏儀監(jiān)測,是通過構(gòu)建光學(xué)層狀模型炼七,通常利用有效介質(zhì)模型(EMA)來解構(gòu)材料的生長過程缆巧。橢偏儀在位監(jiān)控電化學(xué)沉積過程,包括單波長與多波長掃描兩種方式豌拙。單波長橢偏儀在位監(jiān)測原理是利用橢偏儀測試得到的材料生長過程中的橢偏參數(shù)Psi和Delta(Δ)值隨時間(t)的變化陕悬,再通過有效介質(zhì)模型設(shè)定生長層材料的體積比f,從而得到生長層的復(fù)合n按傅,k值隨著t變化的曲線捉超,從而解析出電化學(xué)沉積過程中的成核和生長。因此電化學(xué)沉積過程中的生長解構(gòu)唯绍,主要是通過建立生長層的光學(xué)模型以及生長過程中的EMA模型中體積比設(shè)定來實現(xiàn)拼岳。比如層狀生長過程中,應(yīng)將粗糙度的影響模型的建立中况芒,如設(shè)定樣品和環(huán)境的體積比例分別為50%惜纸,從而獲取生長層的厚度變化而獲取沉積過程中的生長速率(圖1-10(b))。比如2D島狀生長模式(圖1-10(a))绝骚,構(gòu)建時間變化的覆蓋率用于設(shè)定EMA模型中的體積比,但是其時間覆蓋率設(shè)定為線性的压汪,沒有辦法解構(gòu)電化學(xué)沉積初始時的漸進(jìn)成核和瞬時成核粪牲。多波長掃描橢偏儀在位檢測,可以給出顆粒大小等信息蛾魄,但是其模型建立和模擬較為復(fù)雜虑瀑,采樣率受限。


圖1-10(a)二維島狀生長模型滴须,考慮相干疊加舌狗;(b)利用有效介質(zhì)模型解析材料光學(xué)性質(zhì)


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